| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-18页 |
| ·稀磁半导体的研究概况 | 第9-13页 |
| ·磁性概述 | 第9-11页 |
| ·稀磁半导体的概念及分类 | 第11页 |
| ·稀磁半导体的物理性质 | 第11-13页 |
| ·ZnO基稀磁半导体概述 | 第13-16页 |
| ·ZnO半导体的结构及其基本性质 | 第13-14页 |
| ·ZnO稀磁半导体的研究进展 | 第14-16页 |
| ·选题依据及本文的研究方向及内容 | 第16-17页 |
| ·选题依据 | 第16页 |
| ·研究意义 | 第16-17页 |
| ·研究内容 | 第17页 |
| ·本章小结 | 第17-18页 |
| 第二章 稀磁半导体的磁性起源 | 第18-27页 |
| ·稀磁半导体中的交换互作用 | 第19-22页 |
| ·d-d交换作用 | 第19-20页 |
| ·sp-d交换作用 | 第20-22页 |
| ·稀磁半导体的磁性起源 | 第22-26页 |
| ·双交换作用 | 第22-23页 |
| ·RKKY相互作用 | 第23-25页 |
| ·超交换作用 | 第25-26页 |
| ·本章小结 | 第26-27页 |
| 第三章 材料的制备 | 第27-35页 |
| ·稀磁半导体的制备简介 | 第27-29页 |
| ·Zn_(1-x)Cr_xO薄膜样品的制备 | 第29-32页 |
| ·射频磁控溅射 | 第29-30页 |
| ·Zn_(1-x)Cr_xO薄膜的制备过程 | 第30-32页 |
| ·材料表征 | 第32-34页 |
| ·X射线衍射分析(XRD) | 第32-33页 |
| ·扫描电子显微镜分析(SEM) | 第33页 |
| ·X射线光电子能谱 | 第33页 |
| ·输运性能的测量 | 第33-34页 |
| ·本章小结 | 第34-35页 |
| 第四章 测试结果分析 | 第35-51页 |
| ·影响磁控溅射沉积ZnO薄膜的主要因素 | 第35-36页 |
| ·Zn_(1-x)Cr_xO薄膜样品的XRD谱分析 | 第36-40页 |
| ·掺杂浓度对薄膜结构的影响 | 第36-38页 |
| ·不同衬底对薄膜结构的影响 | 第38-40页 |
| ·衬底温度对薄膜结构的影响 | 第40页 |
| ·Zn_(1-x)Cr_xO薄膜样品的表面形貌分析 | 第40-45页 |
| ·掺杂浓度对表面形貌的影响 | 第40-42页 |
| ·衬底温度对表面形貌的影响 | 第42-45页 |
| ·Zn_(1-x)Cr_xO薄膜样品的磁化行为分析 | 第45-49页 |
| ·掺杂浓度对Zn_(1-x)Cr_xO样品磁化行为的影响 | 第45-47页 |
| ·不同衬底对Zn_(1-x)Cr_xO样品磁化行为的影响 | 第47-49页 |
| ·磁性来源 | 第49页 |
| ·本章小结 | 第49-51页 |
| 第五章 结论与展望 | 第51-52页 |
| ·结论 | 第51页 |
| ·有待研究的问题 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-57页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第57页 |
| 攻读硕士学位期间参与的科研项目 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58页 |
