高灵敏的电压可定标的电光探测技术的研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第一章 综述 | 第11-22页 |
| §1.1 集成电路的发展 | 第11-13页 |
| §1.2 集成电路测试技术 | 第13-16页 |
| §1.3 电光探测技术 | 第16-19页 |
| ·研究发展意义 | 第16-17页 |
| ·存在的问题 | 第17-19页 |
| §1.4 本论文的主要工作 | 第19-22页 |
| 第二章 电光探测技术的理论基础 | 第22-32页 |
| §2.1 简单反射法原理说明 | 第22-27页 |
| §2.2 电光探测系统的原理 | 第27-32页 |
| ·电光探测系统的构造 | 第27-29页 |
| ·电光探测系统原理说明 | 第29-32页 |
| 第三章 电光探测技术的实验和讨论 | 第32-68页 |
| §3.1 简单反射系统的改进 | 第32-35页 |
| ·探测器的工作原理及实验 | 第33-34页 |
| ·简单反射系统的改进 | 第34-35页 |
| §3.2 电光探测技术中存在的问题 | 第35-37页 |
| §3.3 电光探测系统高电压灵敏度的实现 | 第37-58页 |
| ·逆压电效应诱导 | 第37-40页 |
| ·高电光系数的无机材料 | 第40-43页 |
| ·高电光系数的聚合物材料 | 第43-47页 |
| ·液态极性分子的取向效应 | 第47-58页 |
| §3.4 电光探测系统中电压校准的实现 | 第58-68页 |
| ·电压校准存在的空气隙问题 | 第58-60页 |
| ·电光探头的小型化 | 第60-61页 |
| ·引入参考电极 | 第61-62页 |
| ·电压定标校准的解决方案 | 第62-65页 |
| ·电压定标校准的测量 | 第65-67页 |
| ·小结 | 第67-68页 |
| 第四章 电光探测器件的制备 | 第68-77页 |
| §4.1 辅助制备工艺 | 第68-70页 |
| ·磁控溅射 ITO | 第68-69页 |
| ·蒸金蒸铝 | 第69-70页 |
| §4.2 极化聚合物电光薄膜的制备 | 第70-72页 |
| §4.3 集成电路的启封 | 第72-77页 |
| ·集成电路启封的分类 | 第72页 |
| ·不同材料封装外壳的启封 | 第72-77页 |
| 第五章 电光探测技术应用与总结 | 第77-80页 |
| §5.1 集成电路检测 | 第77-78页 |
| §5.2 总结 | 第78-80页 |
| 参考文献 | 第80-84页 |
| 作者简介及硕士期间所取得的科研成果 | 第84-85页 |
| 致谢 | 第85页 |
