CVD金刚石薄膜表面的卤素修饰研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-26页 |
| ·金刚石的结构和主要性质 | 第10-16页 |
| ·碳的结晶形式 | 第11-13页 |
| ·金刚石的主要性质 | 第13-16页 |
| ·CVD 方法制备金刚石薄膜材料研究现状 | 第16-24页 |
| ·制备金刚石薄膜研究概况 | 第16页 |
| ·气相沉积金刚石薄膜的方法简介 | 第16-23页 |
| ·掺硼金刚石膜的研究进展 | 第23-24页 |
| ·金刚石薄膜应用研究现状及本文主要内容 | 第24-26页 |
| ·应用研究现状 | 第24-25页 |
| ·本文研究目的及内容 | 第25-26页 |
| 第二章 热丝CVD 法制备掺硼金刚石薄膜 | 第26-35页 |
| ·热丝CVD 法制备金刚石薄膜 | 第26-30页 |
| ·实验装置 | 第26-28页 |
| ·金刚石膜的制备 | 第28-30页 |
| ·掺硼金刚石薄膜的合成原理 | 第30-34页 |
| ·碳的P-T 相图 | 第30-31页 |
| ·CVD 金刚石的生长过程 | 第31-32页 |
| ·反应气体的分布 | 第32-33页 |
| ·氢原子的作用 | 第33-34页 |
| ·本章小结 | 第34-35页 |
| 第三章 CVD 金刚石薄膜的表征方法 | 第35-42页 |
| ·拉曼光谱 | 第35-36页 |
| ·X 射线衍射光谱 | 第36-37页 |
| ·扫描电子显微镜照片 | 第37-38页 |
| ·X 射线光电子能谱 | 第38-40页 |
| ·简介 | 第38页 |
| ·原理 | 第38-40页 |
| ·傅立叶变换红外光谱 | 第40-41页 |
| ·简介 | 第40页 |
| ·工作原理 | 第40-41页 |
| ·本章小节 | 第41-42页 |
| 第四章 CVD 金刚石薄膜的卤素修饰 | 第42-53页 |
| ·化学修饰简介 | 第42页 |
| ·修饰电极的种类 | 第42-43页 |
| ·共价键合法 | 第42页 |
| ·吸附型修饰电极 | 第42-43页 |
| ·聚合物修饰电极 | 第43页 |
| ·金刚石的表面状态及可修饰性 | 第43页 |
| ·薄膜表面导入卤素的基本方法 | 第43-45页 |
| ·金刚石薄膜的氢化处理 | 第43-44页 |
| ·氟素和氯素的引入 | 第44-45页 |
| ·溴素对金刚石薄膜表面的修饰 | 第45-49页 |
| ·试样制备和实验方法 | 第45页 |
| ·金刚石膜溴素修饰的XPS 表征 | 第45-48页 |
| ·实验数据分析 | 第48-49页 |
| ·溴素修饰反应机理探讨 | 第49-50页 |
| ·卤化后金刚石薄膜的应用 | 第50-52页 |
| ·氨基化作用 | 第50-51页 |
| ·羟基化作用 | 第51-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 第五章 结论和展望 | 第53-54页 |
| ·结论 | 第53页 |
| ·展望 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-57页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
