Cr掺杂ZnO薄膜的制备与磁性机制研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第一章绪论 | 第9-17页 |
| ·自旋电子学发展概述 | 第9-10页 |
| ·稀磁半导体研究概述 | 第10-13页 |
| ·稀磁半导体概念及分类 | 第11-12页 |
| ·稀磁半导体的物理性质 | 第12-13页 |
| ·ZnO 基稀磁半导体的研究进展 | 第13-16页 |
| ·ZnO 基稀磁半导体的理论研究 | 第13-14页 |
| ·ZnO 基稀磁半导体的实验研究 | 第14-16页 |
| ·本文的选题依据与主要工作 | 第16页 |
| ·本章小结 | 第16-17页 |
| 第二章稀磁半导体中磁性的可能起因 | 第17-27页 |
| ·稀磁半导体中的交换互作用 | 第17-20页 |
| ·d-d 交换作用 | 第19-20页 |
| ·sp-d 交换作用 | 第20页 |
| ·磁性离子间自旋互作用微观机制 | 第20-26页 |
| ·双交换作用 | 第21-22页 |
| ·RKKY 相互作用 | 第22-24页 |
| ·超交换作用 | 第24-25页 |
| ·Griffiths 理论 | 第25-26页 |
| ·本章小结 | 第26-27页 |
| 第三章样品的制备及其表征 | 第27-33页 |
| ·磁控溅射法制备 Cr 掺杂 ZnO 薄膜 | 第27-31页 |
| ·实验装置 | 第28-29页 |
| ·衬底的选择 | 第29页 |
| ·主要实验步骤 | 第29-31页 |
| ·样品的表征 | 第31-32页 |
| ·X 射线衍射(XRD) | 第31页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第31-32页 |
| ·X 射线光电子能谱(XPS) | 第32页 |
| ·物理特性测量系统(PPMS) | 第32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 第四章 测试结果及其分析 | 第33-44页 |
| ·X 射线衍射分析（XRD） | 第33-34页 |
| ·表面形貌分析（SEM） | 第34-35页 |
| ·X 射线光电子能谱分析（XPS） | 第35-38页 |
| ·磁学性能分析（PPMS） | 第38-42页 |
| ·本章小结 | 第42-44页 |
| 第五章 结论及其展望 | 第44-45页 |
| ·结论 | 第44页 |
| ·有待研究的问题 | 第44-45页 |
| 参考文献 | 第45-49页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第49-50页 |
| 致谢 | 第50-51页 |
