表面等离子体超分辨光刻间隙检测与调平技术研究
| 中文摘要 | 第3-4页 |
| 英文摘要 | 第4-5页 |
| 1 绪论 | 第8-22页 |
| 1.1 研究背景 | 第8-9页 |
| 1.2 光刻技术概况 | 第9-11页 |
| 1.2.1 纳米压印技术 | 第9-10页 |
| 1.2.2 X射线光刻技术 | 第10页 |
| 1.2.3 电子束光刻技术 | 第10页 |
| 1.2.4 投影光刻技术 | 第10-11页 |
| 1.3 SP超分辨光刻技术 | 第11-14页 |
| 1.4 精密间隙检测与调平技术研究现状 | 第14-21页 |
| 1.4.1 精密间隙检测研究现状 | 第14-18页 |
| 1.4.2 精密调平方法的研究现状 | 第18-21页 |
| 1.5 本文主要研究内容及章节安排 | 第21-22页 |
| 2 ISPI间隙检测及调平技术研究 | 第22-29页 |
| 2.1 引言 | 第22页 |
| 2.2 ISPI间隙检测理论和方法 | 第22-25页 |
| 2.2.1 莫尔条纹 | 第22页 |
| 2.2.2 ISPI间隙检测原理 | 第22-25页 |
| 2.2.3 基于ISPI技术的光刻间隙检测 | 第25页 |
| 2.3 基于ISPI间隙检测的光刻调平技术 | 第25-28页 |
| 2.4 本章小节 | 第28-29页 |
| 3 基于ISPI间隙检测技术的超分辨光刻装置研制 | 第29-50页 |
| 3.1 引言 | 第29页 |
| 3.2 设计要求与总体布局 | 第29-30页 |
| 3.2.1 设计要求 | 第29页 |
| 3.2.2 总体布局 | 第29-30页 |
| 3.3 硬件设计 | 第30-44页 |
| 3.3.1 光源模块设计 | 第31-32页 |
| 3.3.2 间隙检测模块设计 | 第32-37页 |
| 3.3.3 光刻镜头模块设计 | 第37-38页 |
| 3.3.4 承片台模块设计 | 第38-42页 |
| 3.3.5 对准模块设计 | 第42-44页 |
| 3.4 软件设计 | 第44-49页 |
| 3.4.1 LabVIEW简介 | 第45-46页 |
| 3.4.2 间隙在线检测设计 | 第46-48页 |
| 3.4.3 超分辨光刻装置软件控制系统 | 第48-49页 |
| 3.5 本章小节 | 第49-50页 |
| 4 间隙检测实验及调平实验分析 | 第50-61页 |
| 4.1 引言 | 第50页 |
| 4.2 ISPI间隙检测及调平实验 | 第50-60页 |
| 4.2.1 掩模整体设计 | 第50-53页 |
| 4.2.2 重复性分析 | 第53-58页 |
| 4.2.3 稳定性分析 | 第58-59页 |
| 4.2.4 自动调平实验 | 第59-60页 |
| 4.3 本章小节 | 第60-61页 |
| 5 总结与展望 | 第61-62页 |
| 5.1 总结 | 第61页 |
| 5.2 主要不足与进一步工作展望 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-68页 |
| 附录 | 第68页 |
| A. 作者在攻读硕士学位期间发表的论文目录 | 第68页 |
| B. 作者在攻读硕士学位期间取得的科研成果目录 | 第68页 |
| C. 作者在攻读硕士学位期间参加的科研项目 | 第68页 |
