| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第9-10页 |
| 第二章 曝光显影原理与显影回收系统介绍 | 第10-47页 |
| 2.1 涂布 | 第18页 |
| 2.2 软烤 | 第18-20页 |
| 2.3 曝光 | 第20-22页 |
| 2.4 光罩 | 第22-23页 |
| 2.5 光源 | 第23页 |
| 2.6 显影 | 第23-29页 |
| 2.7 硬烤 | 第29-30页 |
| 2.8 光刻胶的特性 | 第30-31页 |
| 2.9 显影液回收系统 | 第31-38页 |
| 2.9.1 基本架构 | 第31-32页 |
| 2.9.2 浓度稀释系统 | 第32-33页 |
| 2.9.3 浓度监控系统 | 第33-38页 |
| 2.10 光刻胶过滤膜系统 | 第38-47页 |
| 2.10.1 系统概述 | 第38-40页 |
| 2.10.2 过滤膜的特性与分离机理 | 第40-45页 |
| 2.10.3 光刻胶过滤膜的应用 | 第45-47页 |
| 第三章 显影液中光刻胶浓度对特征线宽影响的研究 | 第47-73页 |
| 3.1 特征线宽的变化趋势研究 | 第47-61页 |
| 3.1.1 特征线宽变化的特性 | 第50-53页 |
| 3.1.2 光罩对特征线宽变化特性的影响 | 第53-58页 |
| 3.1.3 显影时间对特征线宽变化特性的影响 | 第58-61页 |
| 3.2 特征线宽的关键影响因子研究 | 第61-71页 |
| 3.2.1 测量工具的稳定性分析 | 第67-68页 |
| 3.2.2 制作条件影响特征线宽的验证 | 第68-71页 |
| 3.3 显影液中光刻胶浓度对特征线宽变化影响的研究 | 第71-73页 |
| 3.3.1 显影液中光刻胶浓度对特征线宽变化的一次拟合方程研究 | 第71页 |
| 3.3.2 显影液中光刻胶浓度对特征线宽变化的二次拟合方程研究 | 第71-73页 |
| 第四章 结论 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-80页 |
| 附录 | 第80-84页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第84-85页 |
| 致谢 | 第85-86页 |
| 附件 | 第86页 |
