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半导体纳米线光电子器件制备与特性研究

摘要第1-6页
Abstract第6-11页
第一章 绪论第11-30页
   ·引言第11-13页
   ·半导体纳米线光电子器件第13-24页
     ·“自上而下”和“自底而上”器件制备第13-14页
     ·器件基本结构第14-17页
     ·器件研究进展第17-24页
   ·本论文研究内容与结构安排第24-25页
 参考文献第25-30页
第二章 ZnO纳米线无催化剂气相生长第30-42页
   ·引言第30-32页
   ·ZnO纳米线生长第32-34页
   ·ZnO纳米线无催化剂气相生长实验、表征与分析第34-39页
     ·实验过程第34-35页
     ·实验结果第35-38页
     ·生长机制分析第38-39页
   ·本章小结第39页
 参考文献第39-42页
第三章 纳米线侧面电极结构与制备第42-53页
   ·引言第42-43页
   ·纳米线侧面电极制备与表征第43-47页
     ·电极制备实验第43-45页
     ·电极结构表征第45-46页
     ·电极输运测试第46-47页
   ·阳极氧化银绝缘层研宄第47-51页
     ·自匹配结构第47-48页
     ·表征与分析第48-49页
     ·绝缘性能第49-51页
   ·本章小结第51页
 参考文献第51-53页
第四章 基于侧面电极ZnO纳米线紫外光电探测器第53-69页
   ·引言第53-54页
   ·Schottky结型光电探测器第54-61页
     ·器件结构第55-56页
     ·光电响应特性第56-59页
     ·光电响应机制第59-61页
   ·MIS结型光电探测器第61-66页
     ·多纳米线集成器件应用与问题第61-62页
     ·器件结构第62页
     ·光电响应特性第62-63页
     ·界面隧穿输运过程第63-65页
     ·光电响应机制第65-66页
   ·本章小结第66-67页
 参考文献第67-69页
第五章 金属-纳米线腔结构光学共振与光偏振态探测第69-86页
   ·引言第69-71页
   ·光学吸收FDTD模拟第71-78页
     ·FDTD数值方法第71-73页
     ·纳米线介质结构光吸收第73-75页
     ·金属-纳米线腔结构光吸收第75-78页
   ·基于金属-纳米线腔结构光偏振态探测第78-83页
     ·光偏振态响应第78-80页
     ·波长相关的光学振荡特性第80-82页
     ·尺寸相关的光学振荡特性第82-83页
   ·本章小结第83页
 参考文献第83-86页
第六章 结论与展望第86-89页
   ·主要结论第86-87页
   ·研究展望第87-89页
致谢第89-90页
攻读博士学位期间发表的文章和申请的专利第90-91页

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