硅粉在振动阴极反应室中的刻蚀模型研究

摘要	第1-5页
Abstract	第5-8页
1 绪论	第8-18页
·太阳能电池发展现状	第8-9页
·硅在太阳能电池中的重要作用	第9-10页
·国内外硅工业市场	第10-12页
·太阳级硅制备方法介绍	第12-15页
·直立平板电极反应室中的硅粉刻蚀纯化	第15-18页
2 振动阴极反应室的设计	第18-25页
·振动阴极反应室结构设计	第18-20页
·振动阴极反应室特点	第20-24页
·小结	第24-25页
3 硅粉在振动阴极反应室中的运动学分析	第25-36页
·粉粒在反应室中的受力情况分析	第25-28页
·硅粉在电场中的运动	第28-31页
·硅粉在磁场中的运动	第31-35页
·小结	第35-36页
4 硅粉在振动阴极反应室中的刻蚀速率分析	第36-56页
·阴极鞘层中粒子密度分布	第36-38页
·粒子在等离子体中的碰撞	第38-41页
·阴极鞘层中离子能量分布	第41-47页
·磁场对刻蚀速率的影响	第47-49页
·刻蚀速率的计算	第49-52页
·刻蚀速率的实验证明	第52-56页
5 总结	第56-58页
致谢	第58-59页
参考文献	第59-63页
附录 攻读硕士学位期间发表的论文	第63页