平板式PECVD设备布气系统的分析和优化
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-25页 |
| ·研究意义 | 第11-12页 |
| ·太阳能电池 | 第11页 |
| ·Si_3N_1(氮化硅)减反射膜 | 第11-12页 |
| ·PECVD原理及设备介绍 | 第12-23页 |
| ·等离子体的性质,特点,获得方式 | 第12-13页 |
| ·PECVD原理,优点,用途 | 第13-16页 |
| ·国内外对计算机模拟PECVD布气系统的研究 | 第16-19页 |
| ·实验的PECVD设备,工艺介绍 | 第19-23页 |
| ·本论文的工作 | 第23-24页 |
| ·本章小结 | 第24-25页 |
| 第二章 模拟的前期准备工作 | 第25-37页 |
| ·数值模拟和数学模型 | 第25-27页 |
| ·FLUENT模拟所用的各种数学公式,方程及解法 | 第27-33页 |
| ·FLUENT介绍 | 第27-29页 |
| ·软件所用到的数学方程 | 第29-30页 |
| ·方程的求解 | 第30-33页 |
| ·FLUENT求解过程 | 第33-35页 |
| ·FLUENT可以模拟的范围 | 第33页 |
| ·FLUENT求解器求解过程 | 第33-35页 |
| ·本章小结 | 第35-37页 |
| 第三章 物理模型的建立 | 第37-53页 |
| ·Gambit建模,分化网格 | 第37-46页 |
| ·GAMBIT简介 | 第37页 |
| ·物理模型的建立 | 第37-40页 |
| ·网格生成的方法选择 | 第40-42页 |
| ·沈科仪的PECVD设备的网格划分 | 第42-46页 |
| ·本论文的网格划分特点 | 第46页 |
| ·FLUENT模拟参数 | 第46-51页 |
| ·计算反应气体分子自由程以确定流动状态 | 第47-48页 |
| ·FLUENT参数设置 | 第48-49页 |
| ·本文的假设简化和求解算法 | 第49-51页 |
| ·本章小结 | 第51-53页 |
| 第四章 试验过程和模拟结果 | 第53-77页 |
| ·原始情况时反应放电室内的气流模拟分析 | 第53-57页 |
| ·压力分布的模拟结果 | 第53-55页 |
| ·速度矢量模拟结果 | 第55-56页 |
| ·膜厚分布和模拟结果的关系 | 第56页 |
| ·小结 | 第56-57页 |
| ·初始情况试验时布气筛内的模拟分析 | 第57-59页 |
| ·压力情况的模拟 | 第57-58页 |
| ·速度矢量的模拟结果 | 第58-59页 |
| ·小结 | 第59页 |
| ·加装排气挡板后的模拟分析 | 第59-62页 |
| ·压力分布的模拟 | 第59-60页 |
| ·速度矢量的模拟结果 | 第60-61页 |
| ·膜厚分布和模拟结果的关系 | 第61-62页 |
| ·小结 | 第62页 |
| ·改变进气口位置的模拟 | 第62-64页 |
| ·压力分布的模拟 | 第62-64页 |
| ·小结 | 第64页 |
| ·在进气口位置加装四向喷口的模拟优化 | 第64-67页 |
| ·压力分布的模拟结果 | 第64-65页 |
| ·度度矢量的模拟结果 | 第65页 |
| ·膜厚分布和模拟结果的关系 | 第65-66页 |
| ·小结 | 第66-67页 |
| ·反应放电室高度变化的模拟 | 第67-71页 |
| ·放电室高度为20mm压力分布的模拟结果 | 第67页 |
| ·放电室高度为20mm时的速度矢量的模拟结果 | 第67-68页 |
| ·放电室高度为30mm时的压力分布模拟结果 | 第68页 |
| ·放电室高度为30mm时的速度矢量模拟结果 | 第68-69页 |
| ·膜厚分布和模拟结果的关系 | 第69-71页 |
| ·小结 | 第71页 |
| ·反应放电室改为中心抽气的模拟分析 | 第71-74页 |
| ·压力分布的模拟结果 | 第71-72页 |
| ·速度矢量的模拟结果 | 第72-73页 |
| ·膜厚分布和模拟结果的关系 | 第73页 |
| ·小结 | 第73-74页 |
| ·综合分析 | 第74-76页 |
| ·本章小结 | 第76-77页 |
| 第五章 结论和后期计划 | 第77-79页 |
| ·结论 | 第77-78页 |
| ·后期计划 | 第78-79页 |
| 参考文献 | 第79-83页 |
| 致谢 | 第83页 |
