掺硼金刚石薄膜的制备及其电学性质的研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-19页 |
| ·(?)引言 | 第10页 |
| ·金刚石结构 | 第10-11页 |
| ·金刚石的性质及其应用 | 第11-14页 |
| ·力学领域 | 第11-12页 |
| ·微电子学领域 | 第12页 |
| ·声学领域 | 第12-13页 |
| ·光学领域 | 第13页 |
| ·热学领域 | 第13-14页 |
| ·金刚石膜的制备方法简介 | 第14-17页 |
| ·热丝CVD 方法 | 第14-15页 |
| ·微波等离子体CVD 法 | 第15-16页 |
| ·等离子体喷射CVD 法 | 第16-17页 |
| ·国内外金刚石薄膜的研究进展对比 | 第17页 |
| ·选题依据及其主要工作 | 第17-19页 |
| 第二章 金刚石合成原理和生长动力因素 | 第19-29页 |
| ·非平衡热力学耦合模型 | 第19-20页 |
| ·化学反应动力学模型 | 第20-23页 |
| ·基体表面及气相化学反应 | 第23-24页 |
| ·金刚石合成原理 | 第24-26页 |
| ·碳的P-T 相图 | 第24页 |
| ·金刚石的生长过程 | 第24-26页 |
| ·反应气体分布 | 第26页 |
| ·金刚石生长动力因素 | 第26-28页 |
| ·反应气源和工作气压 | 第26-27页 |
| ·衬底和温度 | 第27-28页 |
| ·本章小结 | 第28-29页 |
| 第三章 热丝CVD 法及金刚石膜的表征 | 第29-35页 |
| ·热丝化学气相沉积法 | 第29-30页 |
| ·金刚石膜的表征方法简介 | 第30-33页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第31页 |
| ·高分子投射电子显微镜(HRTEM) | 第31页 |
| ·X 射线衍射谱(XRD) | 第31-32页 |
| ·X 射线光电子谱(XPS) | 第32-33页 |
| ·拉曼光谱(Raman) | 第33页 |
| ·本章小结 | 第33-35页 |
| 第四章 金刚石膜的制备及其性质的研究 | 第35-46页 |
| ·金刚石膜的制备实验 | 第35-40页 |
| ·热丝法制备金刚石膜的实验装置 | 第35-36页 |
| ·热丝法制备金刚石膜的工艺及其步骤 | 第36-38页 |
| ·金刚石膜的硼掺杂 | 第38-40页 |
| ·硼掺杂对金刚石膜生长及其性质的影响 | 第40-45页 |
| ·硼掺杂金刚石膜的XRD 测试 | 第40-41页 |
| ·硼掺杂对金刚石膜表面形貌及其品质的影响 | 第41页 |
| ·硼掺杂金刚石膜的Raman 分析 | 第41-42页 |
| ·硼掺杂金刚石膜的XPS 测试 | 第42-43页 |
| ·硼掺杂对金刚石膜电学性质的影响 | 第43-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 第五章 结论及其展望 | 第46-47页 |
| ·结论 | 第46页 |
| ·展望 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-50页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第50-51页 |
| 致谢 | 第51-52页 |
