| 致谢 | 第1-7页 |
| 摘要 | 第7-9页 |
| ABSTRACT | 第9-17页 |
| 第1章 绪论 | 第17-31页 |
| ·课题背景 | 第17-19页 |
| ·集成电路设计和制造的协同 | 第19-21页 |
| ·关键技术和现状分析 | 第21-27页 |
| ·工艺偏差背景 | 第21-23页 |
| ·光刻建模技术 | 第23-24页 |
| ·逆向版图设计 | 第24-25页 |
| ·版图相关可制造性设计 | 第25-27页 |
| ·论文主要工作和创新点 | 第27-28页 |
| ·论文组织结构 | 第28-29页 |
| ·本章小结 | 第29-31页 |
| 第2章 光学邻近校正相关技术 | 第31-47页 |
| ·背景介绍 | 第31页 |
| ·投影式光刻成像过程 | 第31-35页 |
| ·照明系统 | 第31-33页 |
| ·掩模 | 第33-34页 |
| ·曝光系统 | 第34页 |
| ·现有光刻模拟软件 | 第34-35页 |
| ·分辨率增强技术 | 第35-45页 |
| ·光学邻近校正基本过程 | 第36-41页 |
| ·离轴照明 | 第41-42页 |
| ·辅助条插入技术 | 第42-44页 |
| ·极端RET技术 | 第44-45页 |
| ·可制造性设计技术 | 第45-46页 |
| ·工艺偏差问题 | 第45页 |
| ·工艺窗口分析 | 第45页 |
| ·模型预测分析 | 第45-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 第3章 基于类BESSEL采样函数的光刻建模及优化 | 第47-69页 |
| ·引言 | 第47-48页 |
| ·纯光学模型回顾 | 第48-51页 |
| ·工艺模型数学形式 | 第51-52页 |
| ·工艺建模的困难及解决思路 | 第52-53页 |
| ·类Bessel采样函数的现象建模 | 第53-68页 |
| ·新算法建模流程 | 第53-55页 |
| ·类Bessel圆采样函数及特性 | 第55-57页 |
| ·掩模和TCC的采样表示 | 第57-59页 |
| ·遗传算法优化BTCC | 第59-61页 |
| ·轮廓优化 | 第61-62页 |
| ·实验过程与结果 | 第62-67页 |
| ·结果讨论 | 第67-68页 |
| ·本章小结 | 第68-69页 |
| 第4章 面向辅助条插入的逆向版图设计 | 第69-97页 |
| ·逆向版图设计背景 | 第69-72页 |
| ·逆向版图设计相关研究 | 第72-73页 |
| ·结合SRAF初始插入的IMS | 第73-76页 |
| ·版图初始值的选择 | 第74-75页 |
| ·前向纯光学模型 | 第75页 |
| ·前向光刻胶显影模型 | 第75-76页 |
| ·DCT2优化与尺度函数 | 第76-87页 |
| ·梯度优化方式 | 第78-83页 |
| ·同DPFF算法比较 | 第83-87页 |
| ·改善初始条件的SRAF辅助条插入 | 第87-90页 |
| ·用单个kernel的有效的插入 | 第89-90页 |
| ·实验结果和讨论 | 第90-95页 |
| ·本章小结 | 第95-97页 |
| 第5章 基于自治OPC的可制造性设计 | 第97-115页 |
| ·引言 | 第97-99页 |
| ·版图的布局布线影响 | 第99-102页 |
| ·OPC引擎解决可制造性问题 | 第102-104页 |
| ·自治OPC的原理 | 第104-112页 |
| ·自治OPC演示 | 第106-111页 |
| ·自治OPC的自动化挑战 | 第111-112页 |
| ·本章总结 | 第112-115页 |
| 第6章 结论与展望 | 第115-119页 |
| ·论文工作总结 | 第115-116页 |
| ·今后工作展望 | 第116-119页 |
| 参考文献 | 第119-127页 |
| 个人简历及攻读学位期间发表的学术论文 | 第127-128页 |