光刻机内部气体温度控制模型及算法研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 1 绪论 | 第8-17页 |
| 1.1 课题背景及意义 | 第8页 |
| 1.2 温度对光刻机工作的影响 | 第8-10页 |
| 1.3 气体温度控制技术简述 | 第10-14页 |
| 1.4 温度控制算法研究与发展 | 第14-15页 |
| 1.5 本文的主要研究内容 | 第15-17页 |
| 2 气体温度控制系统需求及原理 | 第17-29页 |
| 2.1 气体温度控制系统需求 | 第17-18页 |
| 2.2 气体温度控制系统原理 | 第18-23页 |
| 2.3 气体循环回路设计及分析 | 第23-24页 |
| 2.4 气体温度控制系统组成及分析 | 第24-28页 |
| 2.5 本章小结 | 第28-29页 |
| 3 气体温度控制系统建模、辨识及分析 | 第29-48页 |
| 3.1 气体温度控制系统控制结构设计 | 第29-34页 |
| 3.2 气体温度控制系统控制对象建模 | 第34-37页 |
| 3.3 气体温度控制系统辨识及分析 | 第37-47页 |
| 3.4 本章小结 | 第47-48页 |
| 4 气体温度控制算法设计与仿真 | 第48-59页 |
| 4.1 气体温控外、内控制器设计 | 第48-50页 |
| 4.2 气体温控前馈控制器设计 | 第50-52页 |
| 4.3 气体温控算法控制流程图 | 第52-55页 |
| 4.4 气体温控算法仿真及分析 | 第55-58页 |
| 4.5 本章小结 | 第58-59页 |
| 5 气体温控算法实验平台搭建及算法验证 | 第59-70页 |
| 5.1 算法实验平台的搭建 | 第59-63页 |
| 5.2 实验项设计 | 第63-64页 |
| 5.3 实验方案设计 | 第64-65页 |
| 5.4 实验及结果分析 | 第65-69页 |
| 5.5 本章小结 | 第69-70页 |
| 6 全文总结与展望 | 第70-72页 |
| 6.1 全文总结 | 第70-71页 |
| 6.2 研究展望 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-76页 |
| 附录1 攻读硕士学位期间申请的专利 | 第76页 |
