| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-9页 |
| 第1章 绪论 | 第13-25页 |
| 1.1 课题背景与意义 | 第13-14页 |
| 1.2 直写掩模方法国内外的研究现状 | 第14-24页 |
| 1.2.1 能量束直写掩模方法 | 第14-17页 |
| 1.2.2 微喷直写掩模方法 | 第17-19页 |
| 1.2.3 扫描探针直写掩模方法 | 第19-22页 |
| 1.2.4 各种直写掩模方法的总结和分析 | 第22-24页 |
| 1.3 本文主要研究内容 | 第24-25页 |
| 第2章 基于流体可纺性的直写方法的相关理论及仿真研究 | 第25-47页 |
| 2.1 引言 | 第25-26页 |
| 2.2 基于流体可纺性的直写原理研究 | 第26-28页 |
| 2.2.1 流体可纺性及其应用现状 | 第26-27页 |
| 2.2.2 基于流体可纺性的丝条微结构制作原理 | 第27-28页 |
| 2.2.3 基于丝条微结构的直写原理 | 第28页 |
| 2.3 直写原理中流体拉伸流动的相关理论 | 第28-32页 |
| 2.3.1 拉伸流动的基本概念 | 第28-30页 |
| 2.3.2 单轴拉伸流动形变的理论 | 第30-31页 |
| 2.3.3 单轴拉伸流动拉伸粘度的理论及分析 | 第31-32页 |
| 2.4 直写原理中流体的可纺性及相关理论 | 第32-36页 |
| 2.4.1 流体的剪切流动和可纺性理论 | 第32-34页 |
| 2.4.2 流变学基本控制方程 | 第34-35页 |
| 2.4.3 流体的断裂理论 | 第35-36页 |
| 2.5 直写原理中流体纺丝及断裂过程的有限元仿真研究 | 第36-46页 |
| 2.5.1 几何模型及边界条件设置 | 第36-39页 |
| 2.5.2 仿真结果与分析 | 第39-44页 |
| 2.5.3 掩模材料的选择 | 第44-46页 |
| 2.6 本章小结 | 第46-47页 |
| 第3章 基于流体可纺性的直写掩模实验研究及自动直写掩模系统的研制 | 第47-67页 |
| 3.1 引言 | 第47-48页 |
| 3.2 基于流体可纺性的丝条微结构制备方法研究 | 第48-52页 |
| 3.2.1 微米级钨探针的电化学法制备工艺及参数研究 | 第48-50页 |
| 3.2.2 丝条微结构的制备方法研究 | 第50-52页 |
| 3.3 基于流体可纺性的直写掩模方法的实验研究 | 第52-58页 |
| 3.3.1 直写掩模的初步实验研究 | 第52-53页 |
| 3.3.2 不同润湿性基底上的直写掩模研究 | 第53-57页 |
| 3.3.4 大面积覆盖的直写掩模方法研究 | 第57-58页 |
| 3.4 自动直写掩模实验系统的研制及自动直写掩模方法研究 | 第58-65页 |
| 3.4.1 自动直写掩模系统的方案设计 | 第58-59页 |
| 3.4.2 自动直写的运动及控制系统的研制 | 第59-61页 |
| 3.4.3 自动直写的控温及隔热模块研制 | 第61-62页 |
| 3.4.4 自动直写掩模系统的研制 | 第62-64页 |
| 3.4.5 自动直写掩模的实验研究 | 第64-65页 |
| 3.5 本章小结 | 第65-67页 |
| 第4章 基于流体可纺性直写掩模后的微纳加工工艺研究 | 第67-83页 |
| 4.1 引言 | 第67-68页 |
| 4.2 直写糖掩模后的沉积和剥离工艺研究 | 第68-73页 |
| 4.2.1 薄膜沉积技术和溶脱剥离技术 | 第68-69页 |
| 4.2.2 基于糖掩模的金微电极制备方法研究 | 第69-70页 |
| 4.2.3 金微电极特性测试及分析 | 第70-71页 |
| 4.2.4 基于金微电极的纳米材料的特性测试研究 | 第71-73页 |
| 4.3 直写糖掩模后的刻蚀工艺研究 | 第73-78页 |
| 4.3.1 刻蚀技术 | 第73页 |
| 4.3.2 基于糖掩模的石墨微结构制备方法研究 | 第73-74页 |
| 4.3.3 原子力显微镜表征及分析 | 第74-76页 |
| 4.3.4 扫描电子显微镜表征及分析 | 第76-78页 |
| 4.4 纳米级少层石墨微结构的制备方法研究 | 第78-82页 |
| 4.4.1 石墨烯及其制备方法 | 第78-80页 |
| 4.4.2 纳米级少层石墨微结构的刻蚀工艺研究 | 第80-82页 |
| 4.5 本章小结 | 第82-83页 |
| 第5章 基于流体可纺性直写掩模的石墨台微纳器件制造方法研究 | 第83-99页 |
| 5.1 引言 | 第83-84页 |
| 5.2 石墨台微纳器件的研究现状 | 第84-86页 |
| 5.2.1 石墨台微纳器件的结构原理及其特性 | 第84-85页 |
| 5.2.2 石墨台微纳器件的制造工艺要求及现状 | 第85-86页 |
| 5.3 石墨台微纳器件的制造方法研究 | 第86-93页 |
| 5.3.1 基于光学光刻掩模制作的石墨台微纳器件制造方法研究 | 第86-90页 |
| 5.3.2 基于流体可纺性直写掩模的石墨台微纳器件制造方法研究 | 第90-92页 |
| 5.3.3 石墨台微纳器件的扫描电镜表征及分析 | 第92-93页 |
| 5.4 石墨台微纳器件的特性测试实验研究 | 第93-97页 |
| 5.4.1 自回复特性测试的实验系统研制 | 第93-94页 |
| 5.4.2 自回复特性测试结果及分析 | 第94-95页 |
| 5.4.3 最大摩擦力和自回复速度计算及分析 | 第95-96页 |
| 5.4.4 不规则器件的自回复特性测试结果及分析 | 第96-97页 |
| 5.5 本章小结 | 第97-99页 |
| 第6章 结论与展望 | 第99-101页 |
| 6.1 结论 | 第99-100页 |
| 6.2 创新点 | 第100页 |
| 6.3 展望 | 第100-101页 |
| 参考文献 | 第101-109页 |
| 致谢 | 第109-111页 |
| 攻读学位期间参加的科研项目和成果 | 第111-112页 |
