隔离型和隧道型RC-IGBT新结构与耐压设计
摘要 | 第1-7页 |
ABSTRACT | 第7-11页 |
第一章 绪论 | 第11-27页 |
·IGBT 的发展 | 第13-17页 |
·逆导型 IGBT | 第17-19页 |
·结终端技术 | 第19-25页 |
·本文的主要工作与创新 | 第25-27页 |
第二章 隔离型 RC-IGBT | 第27-50页 |
·传统 RC-IGBT 基本特性 | 第27-34页 |
·介质隔离型 RC-IGBT | 第34-37页 |
·介质隔离与结隔离型 RC-IGBT | 第37-43页 |
·结隔离型 RC-IGBT | 第43-49页 |
·本章小结 | 第49-50页 |
第三章 隧道型 RC-IGBT | 第50-59页 |
·隧道型 RC-IGBT 的工作原理 | 第50-55页 |
·集成二极管的反向恢复特性 | 第55-57页 |
·本章小结 | 第57-59页 |
第四章 IGBT 的耐压设计 | 第59-87页 |
·单晶材料设计 | 第60-63页 |
·结终端设计 | 第63-74页 |
·吸硼排磷效应 | 第66-68页 |
·氧化层电荷 | 第68-73页 |
·版图设计 | 第73-74页 |
·宽基区 p-n-p 的放大系数 | 第74-79页 |
·实验结果 | 第79-85页 |
·流片工艺 | 第79-81页 |
·版图布局与分片设计 | 第81-82页 |
·测试结果 | 第82-85页 |
·本章小结 | 第85-87页 |
第五章 结论与展望 | 第87-90页 |
·结论 | 第87-89页 |
·展望 | 第89-90页 |
致谢 | 第90-91页 |
参考文献 | 第91-104页 |
攻博期间取得的研究成果 | 第104-106页 |