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隔离型和隧道型RC-IGBT新结构与耐压设计

摘要第1-7页
ABSTRACT第7-11页
第一章 绪论第11-27页
   ·IGBT 的发展第13-17页
   ·逆导型 IGBT第17-19页
   ·结终端技术第19-25页
   ·本文的主要工作与创新第25-27页
第二章 隔离型 RC-IGBT第27-50页
   ·传统 RC-IGBT 基本特性第27-34页
   ·介质隔离型 RC-IGBT第34-37页
   ·介质隔离与结隔离型 RC-IGBT第37-43页
   ·结隔离型 RC-IGBT第43-49页
   ·本章小结第49-50页
第三章 隧道型 RC-IGBT第50-59页
   ·隧道型 RC-IGBT 的工作原理第50-55页
   ·集成二极管的反向恢复特性第55-57页
   ·本章小结第57-59页
第四章 IGBT 的耐压设计第59-87页
   ·单晶材料设计第60-63页
   ·结终端设计第63-74页
     ·吸硼排磷效应第66-68页
     ·氧化层电荷第68-73页
     ·版图设计第73-74页
   ·宽基区 p-n-p 的放大系数第74-79页
   ·实验结果第79-85页
     ·流片工艺第79-81页
     ·版图布局与分片设计第81-82页
     ·测试结果第82-85页
   ·本章小结第85-87页
第五章 结论与展望第87-90页
   ·结论第87-89页
   ·展望第89-90页
致谢第90-91页
参考文献第91-104页
攻博期间取得的研究成果第104-106页

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