摘要 | 第1-13页 |
ABSTRACT | 第13-17页 |
第一章 绪论 | 第17-53页 |
第一节 引言 | 第17-18页 |
第二节 自旋电子学简介 | 第18-29页 |
·巨磁电阻和自旋阀效应 | 第19-21页 |
·隧穿磁电阻和磁性隧道结 | 第21-23页 |
·自旋流和自旋转移力矩效应 | 第23-24页 |
·纷繁多样的自旋电子学材料 | 第24-29页 |
第三节 磁性隧道结和磁性半导体简介 | 第29-34页 |
·磁性隧道结和隧穿磁电阻效应 | 第29-31页 |
·磁性半导体 | 第31-32页 |
·ZnO基磁性隧道结 | 第32-34页 |
第四节 多铁性材料简介 | 第34-43页 |
·多铁性材料研究历史概要 | 第35-36页 |
·单相多铁性材料分类 | 第36-39页 |
·BFO研究现状 | 第39-42页 |
·复合多铁性材料简介 | 第42-43页 |
第五节 本论文的研究动机和研究内容 | 第43-45页 |
·(Zn,Co)0磁性半导体和磁性魅道结的研究 | 第43-44页 |
·多铁性材料研究 | 第44页 |
·本论文章节安排 | 第44-45页 |
参考文献 | 第45-53页 |
第二章 样品的制备技术与分析测试方法 | 第53-63页 |
第一节 样品的制备技术 | 第53-61页 |
·分子束外延(Molecule Beam Epitaxial,MBE) | 第54-58页 |
·磁控溅射(Magnetron Sputtering) | 第58-61页 |
第二节 样品的分析测试方法 | 第61-63页 |
第三章 (Zn,Co)O/(Zn,Mg)O/(Zn,Co)O磁性隧道结的制备及输运性质研究 | 第63-77页 |
第一节 引言 | 第63-64页 |
第二节 样品制备 | 第64-65页 |
·衬底处理 | 第64页 |
·(Zn,Co)O/(Zn,Mg)O/(Zn,Co)O三层膜生长 | 第64页 |
·结的微加工 | 第64-65页 |
第三节 实验结果与讨论 | 第65-74页 |
·(Zn,Co)O单层膜的结构和性质 | 第65-68页 |
·(Zn,Co)O/(Zn,Mg)O/(Zn,Co)O隧道结的磁电阻和输运性质 | 第68-74页 |
第四节 结论 | 第74-75页 |
参考文献 | 第75-77页 |
第四章 BiFeO_3的外延生长及物性研究 | 第77-124页 |
第一节 引言 | 第77-78页 |
第二节 样品制备 | 第78-79页 |
·衬底处理 | 第78页 |
·BFO的外延生长 | 第78-79页 |
第三节 实验结果与讨论 | 第79-117页 |
·STO(001)和STO(111)衬底上生长的BFO薄膜的结构及物性 | 第79-93页 |
·BFO/STO(111)薄膜的倒易空间图结果分析 | 第93-95页 |
·较薄BFO(001)薄膜的倒易空间图结果分析 | 第95-96页 |
·较薄BFO(001)薄膜的透射电子显微镜结果分析 | 第96-100页 |
·较厚BFO(001)中的类四方相 | 第100-105页 |
·斜切STO(001)衬底上生长的BFO薄膜的结构及物性 | 第105-117页 |
第四节 结论 | 第117-120页 |
参考文献 | 第120-124页 |
第五章 CoFe_2O_4/K_(0.5)Na_(0.5)NbO_3无铅复合多铁性材料的制备和磁介电效应研究 | 第124-134页 |
第一节 引言 | 第124-125页 |
第二节 样品制备 | 第125-126页 |
·KNN靶材的制备 | 第125页 |
·衬底处理 | 第125页 |
·KNN和CFO/KNN薄膜的制备 | 第125-126页 |
第三节 实验结果与讨论 | 第126-130页 |
·KNN单层膜的结构和介电性质 | 第126-127页 |
·CFO/KNN的磁性、介电性质和磁介电效应 | 第127-130页 |
第四节 结论 | 第130-132页 |
参考文献 | 第132-134页 |
第六章 总结与展望 | 第134-138页 |
第一节 本论文的主要内容和结论 | 第134-136页 |
第二节 本论文的特色和创新 | 第136-137页 |
第三节 展望 | 第137-138页 |
致谢 | 第138-140页 |
攻读博士学位期间发表的论文 | 第140-141页 |
参加的学术会议 | 第141-142页 |
学位论文评阅及答辩情况表 | 第142-143页 |
附件 | 第143-145页 |