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先进技术微通道板连续打拿极的研究

摘要第1-4页
ABSTRACT第4-5页
目录第5-6页
第一章 绪论第6-13页
   ·微通道板概述第6-8页
   ·先进技术微通道板概述第8-11页
   ·本论文研究的主要内容及意义第11-13页
第二章 次级发射原理及 MCP特征参数第13-26页
   ·次级电子发射理论第13-14页
   ·次级发射的定量计算第14-16页
   ·通道内二次电子发射第16-18页
   ·影响次极发射系数的理论分析第18-21页
   ·微通道板特征参数第21-26页
第三章 AT-MCP内壁连续打拿极材料第26-39页
   ·AT-MCP连续打拿极第26-27页
   ·连续打拿极导电层第27-30页
   ·连续打拿极发射层材料第30-35页
   ·连续打拿极发射层材料比较第35-39页
第四章 AT-MCP制备技术第39-52页
   ·AT-MCP工艺流程和要求第39-40页
   ·实验准备工作第40-41页
   ·微通道列阵刻蚀实验第41-48页
   ·连续打拿极的形成第48-52页
第五章 实验样品测试与分析第52-60页
   ·实验样品测试第52-53页
   ·影响体电阻的因素第53页
   ·电子增益测试第53-54页
   ·影响电子增益的因素第54-56页
   ·次级发射系数测试第56-60页
第六章 结论第60-61页
致谢第61-62页
参考文献第62-65页
长春理工大学硕士学位论文原创性声明第65页
长春理工大学学位论文版权使用授权书第65页

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