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基于PSP的对称LDD MOS管建模研究

摘要第1-7页
ABSTRACT第7-11页
第一章 绪论第11-19页
   ·引言第11-14页
     ·集成电路的发展与摩尔定律第11-12页
     ·超越摩尔定律第12-14页
   ·MOS 晶体管的发展第14-16页
   ·论文的内容与结构第16-19页
第二章 MOS 晶体管器件模型发展第19-37页
   ·MOS 管的Pao 和Sah 模型第19-22页
     ·表面势和能带的关系第19-20页
     ·表面势方程推导第20-22页
   ·阈值电压模型第22-24页
   ·反型层电荷模型第24-34页
     ·EKV 模型第24-29页
     ·BSIM5 模型第29-31页
     ·非物理模型的缺陷第31-34页
   ·表面势模型第34-37页
第三章 PSP 模型第37-52页
   ·PSP 模型简介第37-39页
   ·本征模型第39-46页
     ·表面势求解第39-40页
     ·横向场梯度因子第40-41页
     ·漏电流第41-42页
     ·迁移率衰退第42-43页
     ·速率饱和第43-44页
     ·本征电荷第44-46页
   ·非本征模型第46-49页
     ·覆盖区表面势第46页
     ·衬底电流第46-47页
     ·栅电流第47-49页
     ·非本征电荷第49页
   ·噪声模型第49-50页
   ·结模型第50-51页
   ·非准静态(NQS)模型第51页
   ·PSP 模型的发布版本第51-52页
第四章 对称LDD MOS 晶体管的串联电阻第52-59页
   ·热载流子效应第52-53页
   ·热载流子效应的防护第53-54页
   ·串联电阻分析与计算第54-58页
   ·小结第58-59页
第五章 小尺寸下的 DIBL 效应第59-65页
   ·DIBL 效应第59页
   ·小尺寸下 DIBL 效应建模第59-63页
   ·小结第63-65页
第六章 总结与展望第65-67页
   ·工作总结第65-66页
   ·工作展望第66-67页
致谢第67-68页
参考文献第68-73页
附录第73-74页
详细摘要第74-76页

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