首页--工业技术论文--无线电电子学、电信技术论文--半导体技术论文--一般性问题论文--材料论文

4H-SiC同质外延材料的拉曼光谱研究

摘要第4-6页
ABSTRACT第6-8页
第一章 绪论第11-21页
    1.1 引言第11页
    1.2 4H-SIC晶体材料的概述第11-16页
        1.2.1 4H-SiC的基本性质第11-13页
        1.2.2 4H-SiC的晶体结构及制备方法第13-15页
        1.2.3 4H-SiC的样品介绍第15-16页
    1.3 4H-SIC材料的发展及应用第16-17页
    1.4 拉曼散射光谱的基本理论第17-19页
    1.5 论文的研究内容及章节安排第19-21页
第二章 多波长拉曼光谱分析不同硅碳比的同质外延4H-SIC样品第21-32页
    2.1 引言第21页
    2.2 实验仪器及4H-SIC样品介绍第21-23页
    2.3 多波长拉曼光谱测量与分析不同硅碳比的同质外延4H-SIC样品第23-28页
    2.4 4H-SIC样品的拉曼光谱空间相关模型的理论分析第28-31页
        2.4.1 E_1(TO)模式的定量分析第28-29页
        2.4.2 E_2(TO)模式的空间相关模型分析第29-31页
    2.5 本章小结第31-32页
第三章 横截面拉曼光谱分析同质外延4H-SIC样品第32-44页
    3.1 引言第32页
    3.2 实验仪器配置及测量方法介绍第32-34页
    3.3 4H-SIC材料生长情况和晶体结构介绍第34页
    3.4 横截面拉曼光谱测量与分析4H-SIC样品第34-42页
    3.5 本章小结第42-44页
第四章 偏振拉曼光谱分析同质外延4H-SIC样品第44-56页
    4.1 引言第44页
    4.2 实验装置及测量方法介绍第44-47页
    4.3 4H-SIC材料晶体结构分析第47-48页
    4.4 4H-SIC材料的偏振拉曼光谱测量第48-49页
    4.5 4H-SIC材料的偏振拉曼光谱分析第49-53页
    4.6 4H-SIC材料的拉曼张量元分析第53-54页
    4.7 本章小结第54-56页
第五章 论文总结和展望第56-59页
    5.1 全文总结第56-57页
    5.2 研究展望第57-59页
参考文献第59-65页
致谢第65-66页
攻读硕士期间已发表的论文及研究成果第66页

论文共66页,点击 下载论文
上一篇:基于皮秒激光的高深径比晶圆微孔加工方法与实验
下一篇:远端等离子体源特性与抛光工艺研究