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MEMS晶圆级真空封装结构设计与工艺集成

摘要第1-5页
Abstract第5-8页
1 绪论第8-19页
   ·MEMS 技术及市场前景第8-9页
   ·MEMS 封装技术第9-17页
   ·研究内容与意义第17-19页
2 MEMS 晶圆级真空封装中密封结构的设计第19-34页
   ·焊料键合方案的设计与实现第19-24页
   ·键合环宽度的设计第24-27页
   ·金属化层设计与实现第27-32页
   ·本章小结第32-34页
3 焊料键合实现MEMS 晶圆级真空封装的工艺研究第34-44页
   ·键合质量检测方法第34-37页
   ·焊料键合工艺设计与优化第37-43页
   ·本章小结第43-44页
4 MEMS 晶圆级封装用Ti 膜吸气剂初步研究第44-58页
   ·真空空腔对漏率要求的估算第44-48页
   ·吸气剂的原理及性能指标第48-51页
   ·Ti 膜吸气剂的初步研究第51-57页
   ·本章小结第57-58页
5 MEMS 晶圆级真空封装工艺集成第58-73页
   ·MEMS 器件晶圆级封装方式第58-60页
   ·MEMS 器件C2W 晶圆级封装工艺集成第60-63页
   ·MEMS 器件W2W 晶圆级封装工艺集成第63-66页
   ·晶圆级封装样品检测第66-71页
   ·本章小结第71-73页
6 结论与创新点第73-76页
   ·全文总结第73-74页
   ·创新点第74页
   ·工作展望第74-76页
致谢第76-77页
参考文献第77-80页
附录1 攻读硕士期间发表的论文第80页

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