氧化锌衬底上化学气相沉积法制备石墨烯研究
摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-8页 |
第一章 绪论 | 第8-14页 |
·引言 | 第8-9页 |
·石墨烯概述及研究进展 | 第9-12页 |
·石墨烯的基本结构 | 第9-10页 |
·石墨烯的基本性质 | 第10-11页 |
·石墨烯的研究进展 | 第11-12页 |
·本文的选题意义及研究内容 | 第12-14页 |
第二章 实验原理及表征方法 | 第14-25页 |
·氧化锌的制备方法 | 第14-15页 |
·分子束外延法 | 第14页 |
·金属有机物气相沉积法 | 第14页 |
·溶胶凝胶法 | 第14-15页 |
·磁控溅射法 | 第15页 |
·石墨烯的制备方法 | 第15-19页 |
·微机械剥离法 | 第15-16页 |
·化学气相沉积法(CVD 法) | 第16-18页 |
·液相剥离法 | 第18页 |
·氧化石墨还原法 | 第18页 |
·外延生长法 | 第18-19页 |
·电化学方法 | 第19页 |
·氧化锌和石墨烯的表征手段 | 第19-25页 |
·X 射线衍射 | 第19-20页 |
·拉曼光谱 | 第20-22页 |
·扫描电子显微镜(SEM) | 第22页 |
·原子力显微镜(AFM) | 第22-23页 |
·透射电子显微镜(TEM) | 第23-25页 |
第三章 氧化锌基底的制备及表征 | 第25-40页 |
·氧化锌概述 | 第25-27页 |
·氧化锌的结构 | 第25-26页 |
·氧化锌的性质 | 第26页 |
·氧化锌的应用 | 第26-27页 |
·选择氧化锌作为基底的意义 | 第27-28页 |
·磁控溅射制备氧化锌 | 第28-32页 |
·器材、原料的准备过程 | 第28-29页 |
·氧化锌的制备 | 第29-31页 |
·氧化锌生长机理分析 | 第31-32页 |
·氧化锌薄膜的表征及性能分析 | 第32-38页 |
·氧化锌薄膜的晶体结构分析 | 第32-33页 |
·氧化锌薄膜的表面形貌分析 | 第33-36页 |
·氧化锌薄膜的电阻率分析 | 第36页 |
·氧化锌薄膜的光学性质及能带结构分析 | 第36-38页 |
·本章小结 | 第38-40页 |
第四章 CVD 法在氧化锌表面生长石墨烯 | 第40-50页 |
·实验器材及原料准备 | 第40页 |
·实验方案设计 | 第40-41页 |
·石墨烯生长条件探索 | 第41-46页 |
·不同基底上生长石墨烯 | 第42-43页 |
·不同温度条件下生长石墨烯 | 第43-45页 |
·不同生长时间生长石墨烯 | 第45-46页 |
·石墨烯的转移 | 第46页 |
·石墨烯的测试与表征 | 第46-49页 |
·石墨烯的表面形貌分析 | 第47页 |
·石墨烯的立体结构分析 | 第47-49页 |
·本章小结 | 第49-50页 |
第五章 总结与展望 | 第50-52页 |
参考文献 | 第52-56页 |
附录1 攻读硕士学位期间撰写的论文 | 第56-57页 |
附录2 攻读硕士学位期间参加的科研项目 | 第57-58页 |
致谢 | 第58页 |