| 第1章 绪论 | 第1-25页 |
| ·研究背景及意义 | 第11-12页 |
| ·国内外研究现状 | 第12-13页 |
| ·ZnO的结构特性 | 第13-15页 |
| ·ZnO薄膜的基本性质及应用 | 第15-18页 |
| ·ZnO薄膜的生长方法 | 第18-22页 |
| ·脉冲激光沉积(PLD) | 第18-19页 |
| ·金属有机化学气相沉积(MOCVD) | 第19页 |
| ·溅射(Sputter) | 第19-20页 |
| ·分子束外延(MBE) | 第20-21页 |
| ·喷雾热分解法 | 第21-22页 |
| ·原子层外延(ALE) | 第22页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第22页 |
| ·该论文的主要工作 | 第22-25页 |
| 第2章 ZnO薄膜的溶胶-凝胶法制备机理及发光机制 | 第25-39页 |
| ·溶胶-凝胶法概述及制膜机理 | 第25-27页 |
| ·溶胶-凝胶法的特点 | 第25-26页 |
| ·溶胶-凝胶法的制膜机理 | 第26-27页 |
| ·溶胶-凝胶法制备薄膜的方法 | 第27-29页 |
| ·旋转涂敷法 | 第28页 |
| ·浸涂法 | 第28-29页 |
| ·喷涂法 | 第29页 |
| ·ZnO薄膜的形成机理 | 第29-32页 |
| ·ZnO凝胶热分析 | 第29-30页 |
| ·薄膜制备过程的化学反应机理 | 第30-31页 |
| ·附着机理 | 第31-32页 |
| ·ZnO薄膜的发光机制 | 第32-38页 |
| ·谐振腔结构 | 第32-34页 |
| ·ZnO的缺陷及能级 | 第34-35页 |
| ·ZnO薄膜的光致发光机理 | 第35-38页 |
| ·本章小结 | 第38-39页 |
| 第3章 正交法制备ZnO薄膜的工艺设计 | 第39-47页 |
| ·正交设计的相关知识 | 第39-42页 |
| ·因素及水平 | 第39页 |
| ·实验方法综述 | 第39-42页 |
| ·样品的制备过程 | 第42-45页 |
| ·实验设备及主要原料 | 第43-44页 |
| ·衬底清洗及干燥 | 第44页 |
| ·溶胶的配制及镀膜 | 第44页 |
| ·预热处理及退火 | 第44-45页 |
| ·ZnO薄膜的性能测试 | 第45-46页 |
| ·X射线衍射 | 第45页 |
| ·热分析测试 | 第45页 |
| ·薄膜的形貌观测 | 第45页 |
| ·薄膜的厚度测试 | 第45-46页 |
| ·薄膜的光致发光测试 | 第46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 第4章 ZnO薄膜的正交实验设计 | 第47-59页 |
| ·正交实验法制备ZnO薄膜的参数设计 | 第47-48页 |
| ·选取因素及相应水平 | 第47页 |
| ·确定正交实验表 | 第47-48页 |
| ·实验结果与讨论 | 第48-53页 |
| ·X射线衍射结果分析 | 第48-49页 |
| ·数据分析 | 第49-51页 |
| ·影响因素分析 | 第51-53页 |
| ·ZnO薄膜的发光性质 | 第53-55页 |
| ·ZnO薄膜的形貌表征 | 第55-57页 |
| ·ZnO薄膜的厚度 | 第57-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 第5章 ZnO薄膜掺杂及合金工艺研究 | 第59-73页 |
| ·Al掺杂对ZnO薄膜的性能的影响 | 第59-65页 |
| ·选取因素及相应水平 | 第59页 |
| ·确定正交实验表 | 第59-60页 |
| ·实验结果与讨论 | 第60-63页 |
| ·薄膜的发光特性 | 第63-64页 |
| ·形貌表征 | 第64-65页 |
| ·Mg_xZn_(1-x)O合金薄膜发光性能的研究 | 第65-71页 |
| ·选取因素及相应水平 | 第66页 |
| ·确定正交实验表 | 第66页 |
| ·实验结果与讨论 | 第66-70页 |
| ·Mg_xZn_(1-x)O薄膜的光致发光特性 | 第70-71页 |
| ·Mg_xZn_(1-x)O薄膜的形貌表征 | 第71页 |
| ·本章小结 | 第71-73页 |
| 第6章 结论 | 第73-75页 |
| ·工作总结 | 第73-74页 |
| ·存在的问题及以后的研究方向 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-79页 |
| 附录 | 第79-81页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第81-83页 |
| 致谢 | 第83页 |