| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 第1章 绪论 | 第16-38页 |
| 1.1 课题研究背景与意义 | 第16-21页 |
| 1.1.1 集成电路和摩尔定律 | 第16-18页 |
| 1.1.2 光刻工艺、光刻机和投影光刻物镜 | 第18-21页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第21-36页 |
| 1.2.1 投影光刻物镜的国内外研究现状 | 第21-28页 |
| 1.2.2 投影光刻物镜像质补偿技术的国内外研究现状 | 第28-36页 |
| 1.3 论文主要研究内容与结构安排 | 第36-38页 |
| 第2章 投影光刻物镜的成像原理与像质分析 | 第38-58页 |
| 2.1 前言 | 第38页 |
| 2.2 投影光刻物镜的成像原理与评价参数 | 第38-51页 |
| 2.2.1 投影光刻物镜的成像原理 | 第38-41页 |
| 2.2.2 投影光刻物镜的评价参数 | 第41-51页 |
| 2.3 投影光刻物镜的光学设计与像质分析 | 第51-57页 |
| 2.3.1 设计指标 | 第51页 |
| 2.3.2 工作环境 | 第51页 |
| 2.3.3 曝光光源 | 第51-52页 |
| 2.3.4 光学材料 | 第52-55页 |
| 2.3.5 投影光刻物镜的像质分析 | 第55-57页 |
| 2.4 本章小结 | 第57-58页 |
| 第3章 投影光刻物镜的公差分析与补偿策略 | 第58-82页 |
| 3.1 引言 | 第58页 |
| 3.2 公差类型和公差敏感度分析 | 第58-62页 |
| 3.2.1 公差类型 | 第58-61页 |
| 3.2.2 公差敏感度分析 | 第61-62页 |
| 3.3 光学复算技术 | 第62-65页 |
| 3.4 计算机辅助装调技术 | 第65-70页 |
| 3.5 投影光刻物镜热像差分析和补偿策略 | 第70-80页 |
| 3.5.1 投影光刻物镜温度分析 | 第70-73页 |
| 3.5.2 投影光刻物镜热像差分析 | 第73-77页 |
| 3.5.3 投影光刻物镜热像差的补偿策略研究 | 第77-80页 |
| 3.6 本章小结 | 第80-82页 |
| 第4章 光学元件X-Y柔顺微动机构像质补偿技术研究 | 第82-100页 |
| 4.1 引言 | 第82页 |
| 4.2 光学元件X-Y柔顺微动机构 | 第82-99页 |
| 4.2.1 光学元件X-Y柔顺微动机构的运动机理研究 | 第82-88页 |
| 4.2.2 光学元件X-Y柔顺微动机构的有限元模拟分析 | 第88-95页 |
| 4.2.3 光学元件X-Y柔顺微动机构的实验研究 | 第95-99页 |
| 4.3 本章小结 | 第99-100页 |
| 第5章 主动变形透镜像质补偿技术研究 | 第100-124页 |
| 5.1 引言 | 第100页 |
| 5.2 Z5 像散变形透镜像质补偿技术研究 | 第100-114页 |
| 5.2.1 Z5 像散变形透镜的变形原理和测量方法 | 第100-103页 |
| 5.2.2 Z5 像散变形透镜的整体框架和设计指标 | 第103-107页 |
| 5.2.3 Z5 像散变形透镜的仿真分析 | 第107-109页 |
| 5.2.4 Z5 像散变形透镜的实验研究 | 第109-114页 |
| 5.3 多种像差变形透镜像质补偿技术研究 | 第114-123页 |
| 5.3.1 多种像差变形透镜的结构设计和工作原理 | 第114-117页 |
| 5.3.2 多种像差变形透镜的仿真分析 | 第117-123页 |
| 5.4 本章小结 | 第123-124页 |
| 第6章 总结与展望 | 第124-128页 |
| 6.1 论文研究工作总结 | 第124-125页 |
| 6.2 论文创新点 | 第125-126页 |
| 6.3 研究展望 | 第126-128页 |
| 参考文献 | 第128-136页 |
| 附录 | 第136-146页 |
| 致谢 | 第146-148页 |
| 作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果 | 第148页 |
