磁致伸缩型RF MEMS开关性能仿真与制备工艺研究

摘要	第1-5页
Abstract	第5-7页
目录	第7-9页
第一章 绪论	第9-13页
·研究目的与意义	第9-11页
·研究现状及发展态势	第11-12页
·本论文研究内容	第12-13页
第二章 磁致伸缩MEMS 开关微波性能仿真	第13-27页
·磁致伸缩型RF MEMS 开关的结构设计	第13-15页
·RF MEMS 开关类型	第13-14页
·磁致伸缩RF MEMS 开关(悬臂梁式)结构	第14-15页
·磁致伸缩RF MEMS 开关(膜桥式)结构	第15页
·磁致伸缩MEMS 开关微波性能仿真方法	第15-17页
·磁致伸缩悬臂梁式MEMS 开关微波性能仿真	第17-21页
·“通”状态微波性能仿真	第17页
·“断”状态微波性能仿真	第17-21页
·磁致伸缩型悬臂梁开关的优化设计	第21-23页
·磁致伸缩膜桥式MEMS 开关微波性能仿真及优化	第23-27页
·“通”状态微波性能仿真	第23-25页
·“断”状态微波性能仿真	第25-27页
第三章 磁致伸缩MEMS 开关的力学性能仿真	第27-39页
·磁致伸缩悬臂梁力学性能研究概述	第27-28页
·有限元方法的建立	第28-32页
·磁致伸缩悬臂梁力学性能仿真	第32-37页
·磁致伸缩膜桥力学性能仿真	第37-39页
第四章 磁致伸缩MEMS 开关的制备工艺研究	第39-55页
·制备工艺流程设计	第39-43页
·版图设计	第43-45页
·磁致伸缩MEMS 开关制备工艺过程	第45-50页
·开关制备关键工艺讨论	第50-55页
·金属信号传输线和磁场线的制备	第50页
·RIE 等离子蚀刻技术	第50-51页
·牺牲层技术	第51-54页
·TbFe2/NiFe 薄膜的蚀刻	第54-55页
第五章 结论	第55-56页
致谢	第56-57页
参考文献	第57-60页
在学期间发表的论文	第60页