| 中文摘要 | 第4-5页 |
| 英文摘要 | 第5-8页 |
| 引言 | 第8-10页 |
| 第一章 过渡金属硫化物发光的基本特性与调控法简介 | 第10-29页 |
| 1.1 过渡金属硫化物发光的基本特性 | 第10-19页 |
| 1.1.1 过渡金属硫化物的能带结构 | 第10-12页 |
| 1.1.2 过渡金属硫化物中的激子以及其他准粒子发光 | 第12-19页 |
| 1.2 过渡金属硫化物光学性质的调控方法简介 | 第19-27页 |
| 1.2.1 过渡金属硫化物发光的增强与放大 | 第19-23页 |
| 1.2.2 过渡金属硫化物的能带调控 | 第23-27页 |
| 1.3 本文的选题依据与研究内容 | 第27-29页 |
| 第二章 高温下多层硫化钨的荧光增强 | 第29-44页 |
| 2.1 多层硫化钨的机械剥离与厚度表征 | 第29-31页 |
| 2.1.1 多层硫化钨的机械剥离 | 第29-30页 |
| 2.1.2 多层硫化钨的厚度表征 | 第30-31页 |
| 2.2 多层硫化钨的变温光谱分析 | 第31-35页 |
| 2.3 层间解耦合效应及其在多层硫化钨中的验证 | 第35-40页 |
| 2.3.1 过渡金属硫化物的层间解耦合 | 第36页 |
| 2.3.2 层间解耦合效应在硫化钨中的验证 | 第36-40页 |
| 2.4 多层硫化钨中的谷间载流子转移模型 | 第40-44页 |
| 2.4.1 转移电子效应 | 第40-41页 |
| 2.4.2 硫化钼电致发光中的谷间载流子转移效应 | 第41-42页 |
| 2.4.3 热诱导的谷间载流子转移效应 | 第42-44页 |
| 第三章 硫化钨中的谷间载流子转移模型 | 第44-52页 |
| 3.1 谷间载流子转移模型的理论论证 | 第44-46页 |
| 3.1.1 载流子分布的计算 | 第44-46页 |
| 3.1.2 K和 Λ/Γ处辐射复合概率的比较 | 第46页 |
| 3.2 谷间载流子转移模型的实验论证 | 第46-48页 |
| 3.3 实验中其他因素对多层硫化钨发光的影响 | 第48-49页 |
| 3.3.1 衬底的影响 | 第48-49页 |
| 3.3.2 激光的影响 | 第49页 |
| 3.4 变温实验前后样品的性质表征 | 第49-52页 |
| 第四章 温度对多层硒化钨的能带调控 | 第52-59页 |
| 4.1 多层硒化钨的能带变化 | 第52-55页 |
| 4.2 多层硒化钨中的谷间载流子转移 | 第55-59页 |
| 第五章 结论 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 在学期间成果发表情况 | 第68页 |