基于DMD无掩膜光刻系统中的关键技术研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 符号对照表 | 第11-12页 |
| 缩略语对照表 | 第12-16页 |
| 第一章 绪论 | 第16-24页 |
| 1.1 研究背景和意义 | 第16-17页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第17页 |
| 1.3 传统的掩模光刻技术 | 第17-19页 |
| 1.4 数字无掩膜光刻技术研究现状 | 第19-22页 |
| 1.4.1 DMD光刻镜头畸变校正技术 | 第20-21页 |
| 1.4.2 DMD光刻大面积曝光技术 | 第21-22页 |
| 1.4.3 DMD光刻图像拼接技术 | 第22页 |
| 1.5 本文研究内容及章节安排 | 第22-24页 |
| 第二章 基于DMD数字光刻系统研究 | 第24-34页 |
| 2.1 DMD工作原理 | 第24-29页 |
| 2.1.1 DMD物理结构 | 第24-26页 |
| 2.1.2 DMD光开关原理 | 第26-27页 |
| 2.1.3 DMD阵列控制原理 | 第27-29页 |
| 2.2 DMD数字光刻系统结构 | 第29-33页 |
| 2.2.2 DMD投影光源 | 第30-31页 |
| 2.2.3 DMD及其控制系统 | 第31-32页 |
| 2.2.4 DMD投影物镜 | 第32-33页 |
| 2.3 DMD光刻工件台 | 第33页 |
| 2.4 本章小结 | 第33-34页 |
| 第三章 投影物镜畸变校正方法研究 | 第34-54页 |
| 3.1 物镜畸变的数学模型 | 第34-37页 |
| 3.1.1 径向畸变 | 第35-36页 |
| 3.1.2 偏心畸变 | 第36页 |
| 3.1.3 薄棱镜畸变 | 第36-37页 |
| 3.2 DLP投影镜头标定法 | 第37-46页 |
| 3.2.1 理想镜头的线性模型 | 第38-41页 |
| 3.2.2 相机标定及优化 | 第41-43页 |
| 3.2.3 投影仪标定原理 | 第43-45页 |
| 3.2.4 实验验证与分析 | 第45-46页 |
| 3.3 既定参数下镜头畸变校正 | 第46-53页 |
| 3.3.1 畸变量关系重建 | 第47-51页 |
| 3.3.2 投影镜头畸变校正 | 第51-52页 |
| 3.3.3 畸变校正对比分析 | 第52-53页 |
| 3.4 本章小结 | 第53-54页 |
| 第四章 大面积曝光与图像拼接实现 | 第54-70页 |
| 4.1 传统投影曝光方案 | 第54-57页 |
| 4.1.1 扫描投影法 | 第54-56页 |
| 4.1.2 步进投影法 | 第56-57页 |
| 4.2 分布式大面积投影曝光方法 | 第57-61页 |
| 4.2.1 大面积曝光原理 | 第57-60页 |
| 4.2.2 大面积曝光方法示例 | 第60-61页 |
| 4.3 大面积曝光图像拼接 | 第61-68页 |
| 4.3.1 拼接误差分析 | 第61-62页 |
| 4.3.2 灰度调制技术 | 第62-63页 |
| 4.3.3 图像拼接的实现与仿真 | 第63-68页 |
| 4.4 本章小结 | 第68-70页 |
| 第五章 实验结果与分析 | 第70-80页 |
| 5.1 投影镜头畸变校正实验与验证 | 第70-74页 |
| 5.1.1 畸变校正实验平台 | 第70-71页 |
| 5.1.2 投影镜头畸变校正 | 第71-72页 |
| 5.1.3 实验结果与分析 | 第72-74页 |
| 5.2 一种大面积曝光实验与验证 | 第74-78页 |
| 5.2.1 大面积曝光实验平台 | 第74页 |
| 5.2.2 步进曝光软件设计与实现 | 第74-76页 |
| 5.2.3 曝光方案实验验证与分析 | 第76-78页 |
| 5.3 本章小结 | 第78-80页 |
| 第六章 总结与展望 | 第80-82页 |
| 6.1 工作总结 | 第80-81页 |
| 6.2 未来展望 | 第81-82页 |
| 参考文献 | 第82-86页 |
| 致谢 | 第86-88页 |
| 作者简介 | 第88-89页 |
