磁控溅射法制备掺铝氧化锌透明导电薄膜及其性能的研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第9-19页 |
| 1.1 引言 | 第9页 |
| 1.2 ZnO的结构和性质 | 第9-11页 |
| 1.2.1 ZnO的结构 | 第9-11页 |
| 1.2.2 ZnO的性质 | 第11页 |
| 1.3 ZnO透明导电薄膜的研究进展 | 第11-18页 |
| 1.3.1 AZO透明导电薄膜的研究进展 | 第12-16页 |
| 1.3.2 其他掺杂ZnO透明导电薄膜研究进展 | 第16-17页 |
| 1.3.3 AZO薄膜的应用 | 第17-18页 |
| 1.4 本论文的研究目的和内容安排 | 第18-19页 |
| 2 AZO透明导电薄膜的制备和表征 | 第19-30页 |
| 2.1 AZO透明导电薄膜的制备 | 第19-27页 |
| 2.1.1 薄膜制备方法 | 第19-24页 |
| 2.1.2 实验设备及材料 | 第24-25页 |
| 2.1.3 AZO薄膜制备工艺流程 | 第25-27页 |
| 2.2 AZO薄膜的表征 | 第27-29页 |
| 2.2.1 薄膜结构及成分表征 | 第27-28页 |
| 2.2.2 薄膜光学和电学性能表征 | 第28-29页 |
| 2.3 本章小结 | 第29-30页 |
| 3 工艺参数对AZO薄膜结构与光电性能的影响 | 第30-48页 |
| 3.1 引言 | 第30页 |
| 3.2 工艺参数对AZO薄膜结构与光电性能的影响 | 第30-46页 |
| 3.2.1 射频功率的影响 | 第30-33页 |
| 3.2.2 Ar气压的影响 | 第33-36页 |
| 3.2.3 沉积时间的影响 | 第36-39页 |
| 3.2.4 沉积温度的影响 | 第39-43页 |
| 3.2.5 基底转速的影响 | 第43-46页 |
| 3.3 本章小结 | 第46-48页 |
| 4 紫外辐射对AZO薄膜结构与光电性能的影响 | 第48-56页 |
| 4.1 引言 | 第48页 |
| 4.2 紫外辐射对AZO薄膜结构和性能的影响 | 第48-55页 |
| 4.2.1 紫外辐射对玻璃基底AZO薄膜的影响 | 第48-52页 |
| 4.2.2 紫外辐射对PET基底AZO薄膜的影响 | 第52-55页 |
| 4.3 本章小结 | 第55-56页 |
| 5 结论 | 第56-58页 |
| 5.1 主要结论 | 第56-57页 |
| 5.2 需进一步研究的内容 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-64页 |
| 附录 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65页 |
