| 摘要 | 第2-3页 |
| Abstract | 第3页 |
| 1 绪论 | 第6-13页 |
| 1.1 研究背景和课题意义 | 第6-9页 |
| 1.2 双重图形光刻技术的研究现状 | 第9-12页 |
| 1.2.1 版图分解方法的研究 | 第9-11页 |
| 1.2.2 双重图形技术对电路的性能影响的研究 | 第11-12页 |
| 1.3 本文主要工作 | 第12-13页 |
| 2 传统光刻工艺及双重图形光刻工艺 | 第13-24页 |
| 2.1 传统光刻工艺 | 第13-17页 |
| 2.1.1 工艺流程 | 第13-14页 |
| 2.1.2 光学系统及相关参数 | 第14-17页 |
| 2.1.3 光刻缺陷 | 第17页 |
| 2.2 双重图形光刻工艺介绍 | 第17-23页 |
| 2.2.1 曝光-刻蚀-曝光-刻蚀工艺 | 第18-19页 |
| 2.2.2 曝光-冻结-曝光-刻蚀工艺 | 第19-20页 |
| 2.2.3 自对准双重图形光刻技术 | 第20-21页 |
| 2.2.4 双重图形光刻技术的缺陷 | 第21-23页 |
| 2.3 本章小结 | 第23-24页 |
| 3 基于窗口的双重图形版图分解流程设计 | 第24-40页 |
| 3.1 奇数环构建 | 第24页 |
| 3.2 流程设计 | 第24-39页 |
| 3.2.1 版图的虚拟拓展 | 第26-27页 |
| 3.2.2 版图的简单矩形分解 | 第27-31页 |
| 3.2.3 版图虚拟分割及坐标生成 | 第31-35页 |
| 3.2.4 窗口边界图形预处理 | 第35-38页 |
| 3.2.5 版图分解 | 第38-39页 |
| 3.3 本章小结 | 第39-40页 |
| 4 基于窗口的双重图形版图分解方法应用实例及结果分析 | 第40-47页 |
| 4.1 基于窗口双重图形版图分解方法结果分析 | 第40-42页 |
| 4.1.1 电路介绍 | 第40页 |
| 4.1.2 基于窗口双重图形版图分配结果分析 | 第40-42页 |
| 4.2 光刻仿真以及结果分析 | 第42-46页 |
| 4.2.1 光刻仿真环境搭建 | 第42-44页 |
| 4.2.2 光刻仿真结果 | 第44-46页 |
| 4.3 本章小结 | 第46-47页 |
| 结论 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-51页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第51-52页 |
| 致谢 | 第52-54页 |