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Ⅳ族元素氧化物和V掺杂Si-Ge-N中间带隙材料的结构和光学性质理论研究

目录第1-4页
摘要第4-6页
Abstract第6-8页
第一章 绪论第8-16页
   ·计算材料科学简介第8-12页
   ·课题研究现状第12-14页
   ·本论文的主要研究内容第14-16页
第二章 材料性质的理论计算研究方法简介第16-25页
   ·密度泛函理论基础第16-22页
     ·Hohenberg-Kohn定理第16-18页
     ·Kohn-Sham方程第18-19页
     ·交换关联势第19-20页
     ·基态函数第20页
     ·赝势第20-22页
   ·材料物理性质的计算第22-25页
     ·能带结构第22-23页
     ·光学性质第23-25页
第三章 X_(0.5)Y_(0.5)O_2(X、Y=Si、Ge、Sn)电子结构和光学性质的理论研究第25-34页
   ·引言第25-26页
   ·计算方法第26页
   ·结果与讨论第26-33页
   ·结论第33-34页
第四章 V掺杂的SiGe_2N_4和GeSi_2N_4电子结构和光学性质的理论研究第34-45页
   ·引言第34-35页
   ·计算方法第35-36页
   ·结果与讨论第36-44页
   ·结论第44-45页
第五章 结论第45-46页
参考文献第46-51页
硕士期间发表的论文第51-52页
致谢第52-55页

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