宽光谱监控电子束蒸发薄膜制备系统的研制与应用
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-10页 |
| ·论文工作的背景 | 第7-8页 |
| ·论文工作的目的和意义 | 第8-10页 |
| 第二章 宽光谱监控系统组成 | 第10-24页 |
| ·概述 | 第10-12页 |
| ·薄膜生长系统 | 第12-16页 |
| ·光源与光谱仪 | 第16-20页 |
| ·UWS-1000超宽谱光源 | 第16-17页 |
| ·集成五光栅线阵CCD探测器式光谱仪 | 第17-19页 |
| ·集成十光栅面阵CCD探测器式光谱仪 | 第19-20页 |
| ·光谱分析 | 第20-21页 |
| ·薄膜生长控制 | 第21-22页 |
| ·总结 | 第22-24页 |
| 第三章 宽光谱监控算法 | 第24-40页 |
| ·概述 | 第24页 |
| ·光谱噪声处理 | 第24-27页 |
| ·中值滤波 | 第25-26页 |
| ·快速傅立叶变换滤波 | 第26-27页 |
| ·薄膜生长进度分析 | 第27-39页 |
| ·基本原理 | 第28-30页 |
| ·光学极值法 | 第30-32页 |
| ·光谱比较法 | 第32-33页 |
| ·微分分析法 | 第33-35页 |
| ·对称分析法 | 第35-39页 |
| ·总结 | 第39-40页 |
| 第四章 λ/4膜系薄膜制备 | 第40-44页 |
| ·概述 | 第40页 |
| ·实验 | 第40-41页 |
| ·结果与讨论 | 第41-43页 |
| ·总结 | 第43-44页 |
| 第五章 硅纳米晶非线性光学性质测量 | 第44-50页 |
| ·概述 | 第44-45页 |
| ·实验 | 第45-47页 |
| ·结果与讨论 | 第47-49页 |
| ·总结 | 第49-50页 |
| 第六章 结论 | 第50-52页 |
| 参考文献 | 第52-56页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
