MOCVD法制备ZnO量子点及其性能研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 第一章 前言 | 第9-11页 |
| 第二章 ZnO量子点的性质与研究进展 | 第11-29页 |
| ·ZnO材料的基本特点 | 第11页 |
| ·ZnO量子点的激子能态 | 第11-13页 |
| ·ZnO量子点的量子效应 | 第13-15页 |
| ·表面效应 | 第13-14页 |
| ·量子限域效应 | 第14页 |
| ·量子尺寸效应 | 第14-15页 |
| ·ZnO量子点的光学性能 | 第15-20页 |
| ·光吸收特性 | 第15-16页 |
| ·发光特性 | 第16-17页 |
| ·非线性光学特性 | 第17-18页 |
| ·红移 | 第18-19页 |
| ·拉曼光谱 | 第19-20页 |
| ·ZnO量子点的电学特性 | 第20-21页 |
| ·ZnO量子点的应用 | 第21-22页 |
| ·量子点激光器 | 第21-22页 |
| ·单电子隧穿器件(单电子晶体管) | 第22页 |
| ·ZnO量子点的生长机制 | 第22-24页 |
| ·选择性生长 | 第22-23页 |
| ·自组织生长 | 第23-24页 |
| ·ZnO量子点的制备技术 | 第24-27页 |
| ·金属有机化学气相沉积 | 第24-25页 |
| ·脉冲激光沉积法(PLD) | 第25页 |
| ·分子束外延(MBE) | 第25-26页 |
| ·反应电子束蒸发 | 第26页 |
| ·化学方法 | 第26-27页 |
| ·制备ZnO量子点的难点 | 第27-29页 |
| 第三章 MOCVD法生长ZnO量子点 | 第29-38页 |
| ·MOCVD技术简介 | 第29-32页 |
| ·金属有机化合物 | 第29页 |
| ·MOCVD的装置 | 第29-30页 |
| ·MOCVD技术的应用 | 第30-31页 |
| ·MOCVD技术的新进展 | 第31-32页 |
| ·MOCVD生长ZnO量子点 | 第32-37页 |
| ·实验室所用的MOCVD系统 | 第32-33页 |
| ·衬底清洗 | 第33-34页 |
| ·有机源流量计算 | 第34-35页 |
| ·管路和腔体的冲洗 | 第35-36页 |
| ·ZnO量子点的生长步骤 | 第36页 |
| ·生长动力学控制和工艺优化 | 第36-37页 |
| ·材料的表征 | 第37-38页 |
| 第四章 ZnO量子点的性能研究 | 第38-45页 |
| ·晶体结构分析(XRD) | 第38-40页 |
| ·成分分析(EDS) | 第40页 |
| ·形貌分析(SEM和AFM) | 第40-43页 |
| ·光致发光光谱(PL)分析 | 第43-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 第五章 不同条件对ZnO量子点形貌的影响 | 第45-63页 |
| ·衬底温度对ZnO量子点形貌的影响 | 第45-48页 |
| ·生长时间对ZnO量子形貌的影响 | 第48-52页 |
| ·Zn源流量对ZnO量子点形貌的影响 | 第52-54页 |
| ·Zn源气流方向对ZnO量子点形貌的影响 | 第54-56页 |
| ·不同氧源对ZnO量子点形貌的影响 | 第56-61页 |
| ·等离子增强对ZnO量子点形貌的影响 | 第61-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 第六章 结论 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第69页 |
