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先进集成封装中多物理效应的高性能仿真方法研究

致谢第5-6页
摘要第6-7页
Abstract第7页
1. 绪论第11-16页
    1.1 研究背景及意义第11页
    1.2 研究历史和现状第11-14页
        1.2.1 先进集成封装技术的发展历程第11-12页
        1.2.2 先进集成封装中的多物理效应第12-13页
        1.2.3 多物理效应仿真方法及其高性能计算第13-14页
    1.3 研究方法概述第14页
    1.4 本论文的结构安排和创新点第14-16页
2. 基于时域有限元的多物理场仿真方法第16-27页
    2.1 有限元基础理论第16-17页
    2.2 多物理场方程及其有限元描述第17-22页
        2.2.1 先进集成封装中的多物理场第18-19页
        2.2.2 多物理场有限元方程第19-22页
    2.3 场间耦合第22-23页
    2.4 多物理场效应有限元求解第23-26页
        2.4.1 有限元一般求解过程第23-25页
        2.4.2 时域有限元求解第25页
        2.4.3 多物理求解流程第25-26页
    2.5 本章小结第26-27页
3. 高性能并行仿真方法第27-47页
    3.1 JAUMIN框架简述第27-30页
    3.2 并行算法实现基础第30-33页
        3.2.1 并行方式第30页
        3.2.2 网格片及数据片第30-33页
    3.3 基于JAUMIN的并行软件设计第33-37页
        3.3.1 时域有限元算法并行实现第33-35页
        3.3.2 多物理耦合并行求解软件设计第35-37页
    3.4 程序的验证第37-41页
        3.4.1 电-热验证第37-38页
        3.4.2 热-力验证第38-39页
        3.4.3 多核验证第39-41页
    3.5 并行程序性能分析第41-46页
        3.5.1 加速比和并行效率第41-42页
        3.5.2 测试条件第42页
        3.5.3 测试结果及性能分析第42-46页
    3.6 本章小结第46-47页
4. 封装中大规模键合线阵列多物理效应分析第47-62页
    4.1 基于LDMOSFET的功率放大器的鲁棒性实验第48-51页
        4.1.1 LDMOSFET三维集成结构第48-49页
        4.1.2 鲁棒性实验第49-50页
        4.1.3 实验结果第50-51页
    4.2 实验中键合线的多物理效应分析第51-56页
        4.2.1 电特性分析第51-54页
        4.2.2 热-应力响应第54-56页
    4.3 大规模键合线阵列的电-热-力分析第56-61页
        4.3.1 电磁脉冲波形第56-57页
        4.3.2 键合线阵列在脉冲注入下的电-热-力响应第57-61页
    4.4 本章小结第61-62页
5. 系统级封装(SiP)中的多物理效应并行仿真第62-76页
    5.1 SiP模型第62-63页
    5.2 芯片自热效应分析第63-69页
        5.2.1 芯片自热效应下的温度及应力第64-66页
        5.2.2 不同功率及不同材料小的热-应力响应第66-69页
    5.3 脉冲注入下的多物理效应分析第69-72页
    5.4 全系统自热效应分析第72-75页
    5.5 本章小结第75-76页
6. 结论与展望第76-78页
    6.1 论文总结第76-77页
    6.2 后继工作的展望第77-78页
参考文献第78-83页
作者简历第83页

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