| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 引言 | 第9-11页 |
| 1 ZnO的概述 | 第11-24页 |
| ·ZnO的基本性质 | 第11-12页 |
| ·ZnO的基本结构 | 第11-12页 |
| ·ZnO的电学性质 | 第12页 |
| ·ZnO的光学性质 | 第12页 |
| ·ZnO薄膜光电领域的应用 | 第12-13页 |
| ·ZnO透明电极 | 第12-13页 |
| ·发光器件 | 第13页 |
| ·ZnO薄膜的p型掺杂的研究进展 | 第13-24页 |
| ·IA族元素掺杂 | 第13页 |
| ·V族元素掺杂 | 第13-14页 |
| ·IB族元素掺杂 | 第14页 |
| ·Cu掺杂ZnO的研究进展 | 第14-24页 |
| 2 ZnO薄膜的制备技术 | 第24-29页 |
| ·磁控溅射(Magnetron Sputtering) | 第24页 |
| ·喷雾热分解(Spray Pyrolysis) | 第24页 |
| ·分子束外延(Molecular Bean Epitaxy) | 第24-25页 |
| ·脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition) | 第25页 |
| ·金属有机物化学气相沉积(Metal-organic chemical Vapor Deposition) | 第25-29页 |
| 3 C-Al_2O_3衬底上制备Cu掺杂ZnO薄膜 | 第29-42页 |
| ·C-Al_2O_3衬底上制备本征ZnO薄膜 | 第29-33页 |
| ·锌源流量对c-Al_2O_3衬底上的ZnO薄膜性质的影响 | 第29-30页 |
| ·生长温度对c-Al_2O_3衬底上的ZnO薄膜性质的影响 | 第30-31页 |
| ·氧气流量对c-Al_2O_3衬底上的ZnO薄膜性质的影响 | 第31-33页 |
| ·C-Al_2O_3衬底上制备Cu掺杂ZnO薄膜 | 第33-42页 |
| ·XRD分析 | 第33-34页 |
| ·XPS分析 | 第34-36页 |
| ·PL谱分析 | 第36-42页 |
| 4 6H-SiC衬底上制备Cu掺杂ZnO同质结器件 | 第42-48页 |
| ·6H-SiC衬底上Cu掺杂ZnO同质结器件的制备 | 第42-43页 |
| ·ZnO同质结发光器件的性能 | 第43-48页 |
| ·Ⅰ-Ⅴ特性分析 | 第43-45页 |
| ·EL谱分析 | 第45-46页 |
| ·PL谱分析 | 第46-48页 |
| 结论 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-53页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第53-54页 |
| 致谢 | 第54-55页 |
