超低表面反射率单晶硅片制备方法的研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 引言 | 第9-10页 |
| 1 绪论 | 第10-17页 |
| ·单晶硅太阳能电池的生产工艺 | 第10-11页 |
| ·影响太阳能电池转换效率的因素 | 第11-12页 |
| ·电学损失 | 第11页 |
| ·光学损失 | 第11-12页 |
| ·单晶硅太阳能电池的陷光结构 | 第12-16页 |
| ·本文研究内容及意义 | 第16页 |
| 本章小结 | 第16-17页 |
| 2 样品制备与表征设备 | 第17-25页 |
| ·样品制备设备 | 第17-21页 |
| ·恒温水浴锅 | 第17-18页 |
| ·磁控溅射 | 第18-21页 |
| ·样品表征设备 | 第21-24页 |
| ·反射光谱测量系统 | 第21-22页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第22-23页 |
| ·原子力显微镜 | 第23-24页 |
| 本章小结 | 第24-25页 |
| 3 单晶硅绒面金字塔结构的制备 | 第25-36页 |
| ·金字塔结构的光学特性 | 第25-27页 |
| ·单晶硅绒面刻蚀的反应机理 | 第27-30页 |
| ·常用的金字塔的制备方法 | 第30-35页 |
| ·NaOH溶液与IPA | 第30-31页 |
| ·Na_2CO_3溶液 | 第31-32页 |
| ·基于铁丝网的Na_2CO_3溶液 | 第32-34页 |
| ·Na_3PO_4溶液 | 第34页 |
| ·其他制备方法 | 第34-35页 |
| 本章小结 | 第35-36页 |
| 4 硅纳米线阵列的制备 | 第36-42页 |
| ·实验步骤 | 第36页 |
| ·样品表征 | 第36页 |
| ·结果分析与讨论 | 第36-41页 |
| ·硅纳米线的生长机理 | 第36-38页 |
| ·大面积硅纳米线阵列的形貌 | 第38-39页 |
| ·硅纳米线阵列的影响因素 | 第39-41页 |
| 本章小结 | 第41-42页 |
| 5 双结构的制备 | 第42-57页 |
| ·双结构的制备(一) | 第42-55页 |
| ·实验步骤 | 第42-46页 |
| ·表征方法 | 第46页 |
| ·结果与分析 | 第46-55页 |
| ·结构的制备(二) | 第55-56页 |
| ·实验步骤与分析 | 第55-56页 |
| 本章小结 | 第56-57页 |
| 结论 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-61页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
