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微尺度下单晶硅疲劳失效机理的分子动力学模拟研究

摘要第1-12页
Abstract第12-15页
第一章 绪论第15-35页
   ·研究背景及意义第15-16页
   ·MEMS可靠性研究概述第16-18页
     ·MEMS的基本特点第16-17页
     ·MEMS可靠性的研究需求第17-18页
     ·MEMS可靠性研究的主要内容第18页
   ·硅微结构疲劳失效研究现状第18-31页
     ·硅微结构疲劳实验系统第19-20页
     ·硅微结构疲劳失效的实验研究第20-24页
     ·硅微结构疲劳失效机理的研究第24-28页
     ·硅微结构疲劳寿命建模与预测研究第28-29页
     ·硅微结构疲劳失效研究的总体评述第29-30页
     ·疲劳失效的原子级建模的相关研究现状与分析第30-31页
   ·研究思路与内容安排第31-35页
     ·研究思路第31-33页
     ·内容安排第33-35页
第二章 分子动力学模拟基本理论第35-47页
   ·分子动力学模拟概述第35-37页
     ·分子模拟第35-36页
     ·分子动力学模拟的基本原理第36-37页
   ·分子动力学模拟的主要步骤第37-40页
     ·经典分子动力学模拟的基本流程第37页
     ·分子动力学模拟运动方程的求解第37-38页
     ·统计系综第38-39页
     ·体系边界条件第39-40页
   ·势函数和反应场分子动力学模拟第40-41页
     ·经验势函数力场第40-41页
     ·反应场分子动力学模拟第41页
   ·分子动力学模拟常用软件简介第41-46页
     ·分子动力学模拟代码LAMMPS介绍第42-45页
     ·分子动力学模拟相关的第三方工具简介第45-46页
   ·本章小结第46-47页
第三章 硅微结构静强度的影响因素及影响机理第47-62页
   ·潮湿对二氧化硅静强度的分子动力学模拟第47-56页
     ·引言第47-48页
     ·模拟方法第48-50页
     ·结果与讨论第50-55页
     ·结论第55-56页
   ·潮湿对含表面氧化层的硅微结构静强度的影响第56-61页
     ·引言第56页
     ·模拟方法第56-58页
     ·结果和讨论第58-61页
     ·结论第61页
   ·本章小结第61-62页
第四章 硅微结构的静疲劳影响因素及机理第62-83页
   ·二氧化硅在潮湿环境的静疲劳机理第62-71页
     ·引言第62-63页
     ·模拟方法第63-65页
     ·结果和讨论第65-70页
     ·结论第70-71页
   ·含表面氧化层的单晶硅的静疲劳过程模拟第71-76页
     ·引言第71-72页
     ·模拟方法第72-73页
     ·结果和讨论第73-76页
   ·恒定应力下单晶硅的室温氧化过程的模拟第76-80页
     ·引言第76页
     ·模拟方法第76-78页
     ·结果和讨论第78-79页
     ·结论第79-80页
   ·单晶硅静疲劳机理讨论第80-81页
   ·本章小结第81-83页
第五章 硅微结构循环疲劳失效的影响因素及机理第83-101页
   ·单晶硅在真空中的循环疲劳模拟第83-85页
     ·模拟方法第83页
     ·结果分析第83-85页
   ·循环应力对单晶硅的室温氧化过程的影响模拟第85-96页
     ·引言第85页
     ·模拟方法第85-86页
     ·结果和讨论第86-96页
   ·单晶硅的疲劳机理讨论第96-99页
     ·单晶硅循环疲劳机理阐述第96-97页
     ·新的单晶硅循环疲劳机理的特点分析第97-98页
     ·单晶硅循环疲劳机理对已有实验结果的解释第98-99页
   ·本章小结第99-101页
第六章 实验验证第101-109页
   ·硅微结构拉伸实验系统第101-104页
     ·试样结构设计和加工第101-103页
     ·微结构片外拉伸测试装置第103-104页
   ·硅微结构拉伸和静疲劳实验第104-108页
     ·实验过程第104-106页
     ·实验结果分析第106-108页
   ·本章小结第108-109页
第七章 结论与展望第109-114页
   ·研究结论第109-111页
   ·研究展望第111-114页
致谢第114-116页
参考文献第116-127页
作者在学期间取得的学术成果第127-128页

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