| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第1章 引言 | 第8-12页 |
| ·研究背景及意义 | 第9-11页 |
| ·主要研究内容 | 第11-12页 |
| 第2章 nc-Si:H薄膜的制备与表征方法 | 第12-18页 |
| ·样品制备 | 第12-14页 |
| ·实验仪器 | 第12-13页 |
| ·衬底清洗 | 第13页 |
| ·制备 nc-Si:H 薄膜 | 第13-14页 |
| ·nc-Si:H薄膜的表征方法 | 第14-18页 |
| ·台阶仪 | 第14页 |
| ·XRD | 第14-15页 |
| ·Raman光谱仪 | 第15-16页 |
| ·原子力显微镜（AFM） | 第16页 |
| ·FTIR | 第16页 |
| ·UV-VIS-NIR Spectroscopy | 第16-18页 |
| 第3章 本征nc-Si:H薄膜的制备、表征与光学特性研究 | 第18-33页 |
| ·制备 | 第18页 |
| ·结构表征 | 第18-24页 |
| ·沉积速率 | 第18-19页 |
| ·X射线衍射 | 第19-20页 |
| ·Raman散射 | 第20-22页 |
| ·AFM测试 | 第22页 |
| ·FTIR吸收谱 | 第22-24页 |
| ·光学特性 | 第24-33页 |
| ·透射光谱与反射光谱 | 第24-26页 |
| ·包络法 | 第26-28页 |
| ·数据拟合 | 第28-30页 |
| ·折射率与吸收系数 | 第30-32页 |
| ·光学带隙 | 第32-33页 |
| 第4章 掺磷nc-Si:H薄膜的制备、表征与光学特性研究 | 第33-44页 |
| ·制备 | 第33页 |
| ·结构表征 | 第33-37页 |
| ·沉积速率 | 第33-34页 |
| ·Raman散射谱 | 第34-36页 |
| ·FITR吸收谱 | 第36-37页 |
| ·光学特性 | 第37-44页 |
| ·透射谱与反射谱 | 第37-39页 |
| ·包络法 | 第39-40页 |
| ·数据拟合 | 第40-41页 |
| ·折射率与吸收系数 | 第41-44页 |
| 第5章 结论 | 第44-47页 |
| 参考文献 | 第47-52页 |
| 致谢 | 第52-53页 |
| 硕士研究生在读期间发表的论文 | 第53页 |