基于PLC的多晶硅熔炼炉控制系统
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 1 绪论 | 第8-11页 |
| ·课题背景 | 第8-10页 |
| ·课题的研究目的和主要内容 | 第10-11页 |
| 2 多晶硅定向熔炼炉的组成 | 第11-15页 |
| ·概述 | 第11页 |
| ·工作原理 | 第11页 |
| ·结构功能和优点 | 第11-12页 |
| ·结构特征 | 第12-15页 |
| ·炉体 | 第12页 |
| ·支架 | 第12页 |
| ·中频感应电源和感应线圈 | 第12-13页 |
| ·坩埚 | 第13页 |
| ·真空机组 | 第13页 |
| ·真空测量 | 第13页 |
| ·测温装置 | 第13-14页 |
| ·PLC控制系统 | 第14-15页 |
| 3 真空熔炼系统的PLC控制系统设计 | 第15-39页 |
| ·可编程控制器概述 | 第15-16页 |
| ·系统设计步骤 | 第16-17页 |
| ·系统总体设计要求 | 第17-19页 |
| ·系统总体方案构建 | 第19-20页 |
| ·系统容量确定 | 第20-22页 |
| ·硬件系统的设计 | 第22-27页 |
| ·电气原理图设计 | 第22-25页 |
| ·设备的选型 | 第25-27页 |
| ·控制系统梯形图设计 | 第27-39页 |
| ·隔热板脉冲输出控制梯形图设计 | 第27-32页 |
| ·隔热板高速脉冲计数梯形图设计 | 第32-35页 |
| ·温度控制系统梯形图设计 | 第35-39页 |
| 4 真空熔炼炉控制系统组态软件编制 | 第39-56页 |
| ·系统组态软件编制概述 | 第39-41页 |
| ·系统组态软件的简介和选择 | 第39-40页 |
| ·组态监控画面的具体要求 | 第40-41页 |
| ·上位机组态软件设备和变量定义 | 第41-49页 |
| ·上位机组态软件设备的定义 | 第41-44页 |
| ·上位机组态监控PLC变量的设置 | 第44-47页 |
| ·上位机组态监控智能仪表的变量设备 | 第47-49页 |
| ·上位机组态监控系统画而设计 | 第49-56页 |
| ·登录画面设计 | 第49-50页 |
| ·主控制画面设计 | 第50-51页 |
| ·实时趋势曲线画面设计 | 第51-52页 |
| ·历史趋势曲线画面设计 | 第52页 |
| ·隔热板控制画面设计 | 第52-53页 |
| ·历史数据报表画面设计 | 第53-54页 |
| ·系统报警画面设计 | 第54-56页 |
| 5 设备的安装与调试 | 第56-57页 |
| ·设备安装 | 第56页 |
| ·设备调试 | 第56-57页 |
| 结论 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-60页 |
| 附录A PLC主要梯形图程序 | 第60-66页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
