基于光学邻近校正的双重图形研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-7页 |
| 第1章 绪论 | 第7-14页 |
| ·集成电路发展概况 | 第7-8页 |
| ·集成电路的设计及自动化技术 | 第8-9页 |
| ·集成电路的制造工艺 | 第9-10页 |
| ·集成电路可制造性设计(DFM) | 第10-13页 |
| ·本文完成的主要工作及组织结构 | 第13-14页 |
| 第2章 光刻工艺及分辨率增强技术 | 第14-29页 |
| ·光刻工艺 | 第14页 |
| ·分辨率增强技术(RET) | 第14-21页 |
| ·光学邻近校正(OPC) | 第21-26页 |
| ·OPC工作方式 | 第21-23页 |
| ·OPC技术优势 | 第23页 |
| ·光刻模型 | 第23-24页 |
| ·掩模设计因素和限制 | 第24-26页 |
| ·双重图形技术(DPT) | 第26-29页 |
| ·双重图形制程 | 第27-28页 |
| ·双重图形研究的现状 | 第28-29页 |
| 第3章 光学邻近校正与双重图形的问题分析 | 第29-35页 |
| ·研究背景介绍 | 第29页 |
| ·问题描述 | 第29-31页 |
| ·问题分析及研究目标 | 第31-35页 |
| 第4章 分解算法、冲突的解决及OPC分析 | 第35-47页 |
| ·分解问题的阐述 | 第35-37页 |
| ·分解执行的困难 | 第37-38页 |
| ·DP分解的版图设计兼容性 | 第38-39页 |
| ·DPT分解的重分类 | 第39-41页 |
| ·基于边修正的OPC重用算法分析 | 第41-47页 |
| ·段移动分析 | 第41-43页 |
| ·纹波效应分析 | 第43-45页 |
| ·校正范围分析 | 第45-46页 |
| ·误差分析方法 | 第46-47页 |
| 第5章 算法及验证分析 | 第47-61页 |
| ·算法分析 | 第47-54页 |
| ·图形切割演变 | 第48-49页 |
| ·多边形预校正及匹配 | 第49-51页 |
| ·段类型的划分及重用 | 第51-52页 |
| ·计算误差的分析 | 第52页 |
| ·复杂度分析 | 第52-54页 |
| ·试验结果与讨论 | 第54-59页 |
| ·光源优化 | 第59-61页 |
| 第6章 总结展望 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 作者简历 | 第66页 |
