间歇反应釜化学过程先进控制系统设计与研究
致谢 | 第1-4页 |
摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-8页 |
第一章 绪论 | 第8-14页 |
·选题背景及意义 | 第8-9页 |
·间歇反应控制技术的难点 | 第9-10页 |
·反应爸控制技术的现状 | 第10-13页 |
·间歇反应过程控制系统的研究概况及应用 | 第10-11页 |
·控制理论在间歇反应过程控制中的研究概况 | 第11-13页 |
·本文的主要设计与研究内容 | 第13-14页 |
第二章 DME生产过程特性分析 | 第14-21页 |
·DME生产过程的影响因素 | 第14-15页 |
·温度对反应速率的影响 | 第14页 |
·搅拌速度对传热的影响 | 第14-15页 |
·间歇反应签温度控制系统对象特性分析 | 第15-20页 |
·系统模型概念简介 | 第15-17页 |
·反应爸数学模型的建立 | 第17-20页 |
·本章小结 | 第20-21页 |
第三章 反应签控制方案及控制策略研究 | 第21-36页 |
·DME生产设备的控制方案设计 | 第21-24页 |
·改造前的工艺流程及控制方案 | 第21-22页 |
·改造后间歇反应釜的工艺流程及方案 | 第22-24页 |
·PID控制策略与算法 | 第24-26页 |
·PID控制系统的基本原理 | 第24-25页 |
·PID参数的整定 | 第25-26页 |
·PID控制器的特点 | 第26页 |
·模糊控制策略与算法 | 第26-33页 |
·模糊控制技术简介 | 第27-28页 |
·反应釜模糊控制器的设计 | 第28-33页 |
·确定反应爸模糊控制器的结构 | 第28-30页 |
·模糊控制规则的建立 | 第30-31页 |
·求取模糊查询表 | 第31-33页 |
·模糊-PID相结合控制策略与仿真 | 第33-35页 |
·本章小结 | 第35-36页 |
第四章 基于PLC的反应爸温度控制系统设计 | 第36-47页 |
·反应爸温度控制工艺简述 | 第36-37页 |
·工艺说明 | 第36-37页 |
·参数表 | 第37页 |
·反应釜温度控制系统的硬件配置及I/O分配 | 第37-41页 |
·下位机PLC控制系统的硬件配置 | 第37-39页 |
·下位机PLC控制系统的开关量I/O表 | 第39页 |
·下位机PLC控制系统的模拟量参数表 | 第39-41页 |
·控制系统的软件设计 | 第41-42页 |
·反应爸温度控制系统软件流程 | 第41页 |
·温度串级调节回路工作原理 | 第41-42页 |
·梯形图程序及PID参数设置 | 第42-45页 |
·模糊控制算法在PLC中的实现方式 | 第45-46页 |
·本章小结 | 第46-47页 |
第五章 总结与展望 | 第47-49页 |
·总结 | 第47页 |
·展望 | 第47-49页 |
参考文献 | 第49-51页 |
详细摘要 | 第51-53页 |