| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 引言 | 第9-11页 |
| 1 绪论 | 第11-28页 |
| ·稀磁半导体简介 | 第11-19页 |
| ·自旋电子学 | 第11页 |
| ·稀磁半导体的定义及研究现状 | 第11-16页 |
| ·稀磁半导体的磁性来源和机制 | 第16-19页 |
| ·ZnO材料简述 | 第19-25页 |
| ·ZnO的结构和基本性质 | 第19-23页 |
| ·ZnO薄膜的应用 | 第23-25页 |
| ·ZnO基稀磁半导体研究进展 | 第25-28页 |
| 2 稀磁半导体材料的制备及分析方法 | 第28-40页 |
| ·样品的制备方法 | 第28-32页 |
| ·磁控溅射(Magnetron Sputtering) | 第28页 |
| ·分子束外延(MBE) | 第28-29页 |
| ·脉冲激光沉积(PLD) | 第29-30页 |
| ·金属有机化学气相沉积(MOCVD) | 第30-31页 |
| ·离子注入法(Ion Implantation) | 第31页 |
| ·溶胶—凝胶法(Soe-gel) | 第31-32页 |
| ·本文所用设备简介 | 第32-33页 |
| ·样品分析方法 | 第33-40页 |
| ·电子探针显微分析(EPMA) | 第33-34页 |
| ·霍尔(Hall)效应 | 第34-35页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第35-37页 |
| ·透射光谱(Transmittance Spectrum) | 第37页 |
| ·光致发光(PL)光谱 | 第37-39页 |
| ·物理性能测量系统(PPMS) | 第39-40页 |
| 3 Co掺杂ZnO薄膜的制备与表征 | 第40-55页 |
| ·ZnCoO薄膜的制备及分析方法 | 第40-41页 |
| ·Co掺杂ZnO的制备方法 | 第40-41页 |
| ·Zn_(1-x)Co_xO薄膜的表征 | 第41页 |
| ·结果与分析 | 第41-54页 |
| ·结构分析 | 第41-44页 |
| ·成分分析 | 第44-45页 |
| ·光学性质分析 | 第45-51页 |
| ·磁学性质分析 | 第51-53页 |
| ·电学性能分析 | 第53-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 4 薄膜中Co含量的定量分析及薄膜磁性的起源 | 第55-67页 |
| ·ZnCoO薄膜中Co含量的定量分析 | 第56-62页 |
| ·XRD中相组成与薄膜中金属Co的定量计算 | 第56-60页 |
| ·吸收截面与Co~(2+)离子含量估算 | 第60-62页 |
| ·ZnCoO薄膜磁性起源的探讨 | 第62-65页 |
| ·薄膜磁性起源分析 | 第62-63页 |
| ·薄膜磁性的物理机制 | 第63-65页 |
| ·本章小结 | 第65-67页 |
| 结论 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-73页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |