| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 目录 | 第9-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-21页 |
| ·硅基太阳能电池的研究背景 | 第11-12页 |
| ·硅基太阳能电池的发展历史与研究现状 | 第12-16页 |
| ·本论文的主要内容 | 第16-19页 |
| 参考文献 | 第19-21页 |
| 第二章 宽带隙非晶碳化硅膜的制备、结构表征及光电性质研究 | 第21-32页 |
| ·引言 | 第21-22页 |
| ·实验细节 | 第22-23页 |
| ·非晶碳化硅膜的结构与光学性质 | 第23-27页 |
| ·非晶碳化硅膜的电学性质研究 | 第27-30页 |
| ·本章小结 | 第30-31页 |
| 参考文献 | 第31-32页 |
| 第三章 氢逐层等离子体处理对单层碳化硅薄膜光电性质的影响 | 第32-45页 |
| ·引言 | 第32-33页 |
| ·氢逐层等离子体退火技术制备碳化硅薄膜 | 第33页 |
| ·氢逐层等离子体退火前后碳化硅薄膜的结构表征 | 第33-36页 |
| ·氢逐层退火技术制备碳化硅薄膜的光学特性 | 第36-41页 |
| ·氢逐层退火技术制备碳化硅薄膜的电学性质 | 第41-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 参考文献 | 第44-45页 |
| 第四章 单层镶嵌在碳化硅中纳米硅量子点及纳米硅量子点/碳化硅的结构研究 | 第45-60页 |
| ·引言 | 第45-46页 |
| ·单层非晶碳化硅薄膜退火制备纳米硅量子点材料 | 第46-52页 |
| ·样品制备与结构表征 | 第46-48页 |
| ·光学与电学性质研究 | 第48-52页 |
| ·纳米硅量子点/SiC多层结构的研究 | 第52-57页 |
| ·样品制备 | 第52页 |
| ·结构表征 | 第52-54页 |
| ·光吸收与光伏特性研究 | 第54-57页 |
| ·本章小结 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-60页 |
| 第五章 总结与展望 | 第60-63页 |
| ·本论文的主要结论 | 第60-61页 |
| ·展望 | 第61-63页 |
| 硕士期间发表论文 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64-66页 |
