| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-22页 |
| ·硅基发光材料的研究意义 | 第9-10页 |
| ·表面等离激元的特性 | 第10-15页 |
| ·表面等离激元提高内量子效率的研究进展 | 第15-16页 |
| ·图形化结构提高光萃取效率的研究进展 | 第16-18页 |
| ·本论文的主要研究内容 | 第18-20页 |
| 参考文献 | 第20-22页 |
| 第二章 银岛膜的制备及局域表面等离激元的研究 | 第22-34页 |
| ·引言 | 第22-23页 |
| ·银岛膜的制备与形貌分析 | 第23-28页 |
| ·银岛膜的消光特性研究 | 第28-32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 参考文献 | 第33-34页 |
| 第三章 局域表面等离激元增强富氮a-SiNx：O薄膜的发光 | 第34-47页 |
| ·引言 | 第34-35页 |
| ·a-SiNx：O薄膜光致发光峰位的调制 | 第35-37页 |
| ·局域表面等离激元对富氮a-SiNx：O薄膜光致发光的增强机制 | 第37-42页 |
| ·局域表面等离激元近场增强效应的理论模拟 | 第42-44页 |
| ·本章小结 | 第44-46页 |
| 参考文献 | 第46-47页 |
| 第四章 激光干涉晶化中移相光栅掩模对光场的调制作用 | 第47-59页 |
| ·引言 | 第47-48页 |
| ·移相光栅掩模周期性调制效应的理论模拟 | 第48-54页 |
| ·周期性纳米硅阵列的制备 | 第54-57页 |
| ·本章小结 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-59页 |
| 第五章 总结与展望 | 第59-62页 |
| ·研究工作总结 | 第59-60页 |
| ·展望 | 第60-62页 |
| 硕士阶段发表的论文 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
