| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-12页 |
| 第一章 概述 | 第12-27页 |
| ·ZnO薄膜的研究现状 | 第12-15页 |
| ·ZnO薄膜的结构与特性 | 第15-17页 |
| ·ZnO的晶体结构 | 第15-16页 |
| ·ZnO的缺陷 | 第16-17页 |
| ·ZnO的特性 | 第17页 |
| ·ZnO材料的应用 | 第17-20页 |
| ·ZnO薄膜的表征手段和分析方法 | 第20-24页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第20-22页 |
| ·原子力显微技术 | 第22-23页 |
| ·光致发光谱 | 第23-24页 |
| ·霍尔(Hall)测量 | 第24页 |
| ·ZnO薄膜的主要生长方法 | 第24-26页 |
| ·本文的研究内容 | 第26-27页 |
| 第二章 ZnO薄膜的制备与测试 | 第27-32页 |
| ·实验原理 | 第27-28页 |
| ·离子束溅射结合热氧化法 | 第27页 |
| ·射频反应磁控溅射法 | 第27-28页 |
| ·脉冲激光沉积(PLD)法 | 第28页 |
| ·实验设备 | 第28-29页 |
| ·磁控与离子束联合溅射系统 | 第28页 |
| ·热氧化系统 | 第28-29页 |
| ·PLD系统 | 第29页 |
| ·样品预处理 | 第29-30页 |
| ·ZnO薄膜的制备过程 | 第30-31页 |
| ·离子束溅射结合热氧化法制备过程 | 第30页 |
| ·射频反应磁控溅射法制备过程 | 第30页 |
| ·PLD法制备过程 | 第30-31页 |
| ·样品测试 | 第31-32页 |
| 第三章 ZnO薄膜的表征与分析 | 第32-45页 |
| ·ZnO薄膜的结构特性 | 第32-35页 |
| ·离子束溅射结合热氧化法制备 ZnO薄膜的结构特性 | 第32页 |
| ·射频反应磁控溅射法制备 ZnO薄膜的结构特性 | 第32页 |
| ·PLD法制备 ZnO薄膜的结构特性 | 第32-33页 |
| ·结论 | 第33-35页 |
| ·ZnO薄膜的应力分析 | 第35页 |
| ·ZnO薄膜的表面形貌 | 第35-45页 |
| ·离子束溅射结合热氧化法制备 ZnO薄膜的表面形貌 | 第35-41页 |
| ·射频反应磁控溅射法制备 ZnO薄膜的表面形貌 | 第41-42页 |
| ·PLD法制备 ZnO薄膜的表面形貌 | 第42-44页 |
| ·结论 | 第44-45页 |
| 第四章 结论 | 第45-47页 |
| 参考文献 | 第47-53页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第53页 |