脉冲激光沉积制备氧化锌纳米棒及其性质的研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-21页 |
| ·引言 | 第12-13页 |
| ·氧化锌的性质与应用 | 第13-15页 |
| ·氧化锌的基本性质 | 第13-14页 |
| ·ZnO中的缺陷 | 第14-15页 |
| ·氧化锌的应用与研究现状 | 第15-16页 |
| ·ZnO纳米棒的制备方法 | 第16-18页 |
| ·研究意义 | 第18-19页 |
| ·本文研究内容 | 第19-21页 |
| 第二章 氧化锌纳米棒的制备 | 第21-28页 |
| ·脉冲激光沉积原理 | 第21-22页 |
| ·薄膜的生长过程 | 第22-24页 |
| ·影响薄膜生长的因素 | 第24-25页 |
| ·脉冲激光沉积设备 | 第25-26页 |
| ·ZnO靶材的制备 | 第26页 |
| ·ZnO纳米棒的制备 | 第26-28页 |
| 第三章 氧化锌薄膜的XRD研究 | 第28-41页 |
| ·X射线运动学衍射理论 | 第28-34页 |
| ·X射线衍射方向 | 第28-32页 |
| ·X射线衍射强度 | 第32-34页 |
| ·实验仪器简介 | 第34-35页 |
| ·XRD的结果与讨论 | 第35-40页 |
| ·衬底温度对ZnO薄膜X射线衍射的影响 | 第35-37页 |
| ·脉冲能量对ZnO薄膜X射线衍射的影响 | 第37-38页 |
| ·重复频率对ZnO薄膜X射线衍射的影响 | 第38-39页 |
| ·沉积时间对ZnO薄膜X射线衍射的影响 | 第39-40页 |
| ·小结 | 第40-41页 |
| 第四章 氧化锌薄膜的表面形貌研究 | 第41-56页 |
| ·原子力显微镜简介 | 第41-43页 |
| ·原子力显微镜的原理 | 第41-42页 |
| ·激光检测原子力显微镜 | 第42页 |
| ·原子力显微镜的工作模式 | 第42页 |
| ·原子力显微镜的优点 | 第42-43页 |
| ·实验仪器简介 | 第43页 |
| ·扫描电子显微镜简介 | 第43-44页 |
| ·表面形貌的研究结果与讨论 | 第44-55页 |
| ·不同衬底温度下ZnO薄膜原子力显微镜的研究 | 第44-47页 |
| ·不同衬底温度生长的ZnO薄膜的SEM研究 | 第47-50页 |
| ·不同脉冲能量下ZnO薄膜原子力显微镜的研究 | 第50-52页 |
| ·不同脉冲频率下ZnO薄膜原子力显微镜的研究 | 第52-53页 |
| ·不同沉积时间下ZnO薄膜原子力显微镜的研究 | 第53-55页 |
| ·小结 | 第55-56页 |
| 第五章 氧化锌薄膜的PL谱研究 | 第56-65页 |
| ·光致发光概念 | 第56页 |
| ·光致发光过程 | 第56页 |
| ·光电显示材料发光的基本原理 | 第56-59页 |
| ·ZnO发光机理的研究 | 第59-60页 |
| ·绿光的发光机制 | 第59-60页 |
| ·紫外光的发光机制 | 第60页 |
| ·其他光的发光机制 | 第60页 |
| ·PL谱的研究结果与讨论 | 第60-64页 |
| ·衬底温度对PL谱的影响 | 第61-62页 |
| ·能量变化对PL谱的影响 | 第62-63页 |
| ·沉积时间对PL谱的影响 | 第63-64页 |
| ·小结 | 第64-65页 |
| 结论 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-78页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第78页 |
