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ECR_PAMOCVD外延生长C_GaN过程中等离子体微参数对衬底预处理的影响

第一章 引言第1-14页
 第一节 GaN系半导体材料的应用前景第6-7页
 第二节 GaN材料的基本性质和生长技术第7-11页
 第三节 GaN生长中等离子体的作用与特性研究第11-12页
 第四节 本论文的主要工作第12-14页
第二章 Langmuir探针测量系统第14-33页
 第一节 静电探针测量原理第14-17页
 第二节 数据采集技术概述第17-18页
 第三节 Langmiur探针数据采集硬件实现方法第18-25页
 第四节 系统软件设计第25-33页
第三章 Langmuir探针数据采集处理与讨论第33-44页
 第一节 Langmuir探针的数据采集第33-36页
 第二节 实验数据处理第36-41页
 第三节 实验结果分析与讨论第41-44页
第四章 等离子体发射光谱测量系统第44-54页
 第一节 等离子体发射光谱测量原理第44-48页
 第二节 等离子体发射光谱测量系统的组成第48-50页
 第三节 光谱测量系统中的上位机控制软件设计第50-54页
第五章 GaN生长过程中的等离子体发射光谱测量第54-63页
 第一节 氢等离子体发射光谱测量第54-56页
 第二节 氮等离子体发射光谱测量第56-60页
 第三节 氮中掺氢放电对等离子体发射光谱的影响第60-62页
 第四节 发射光谱测量结果分析与讨论第62-63页
第六章 GaN外延层生长实验与讨论第63-69页
 第一节 C—GaN/(001)GaAs外延层生长实验第63-66页
 第二节 结果与讨论第66-69页
结束语第69-70页
参考文献第70-72页
附录第72-76页

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