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控制技术在GaN薄膜生长过程中的应用

第一章 绪论第1-11页
 第一节 GaN材料的发展与应用第6-7页
 第二节 GaN材料的基本特性第7-8页
 第三节 本实验室对GaN材料的研究第8-9页
 第四节 本论文的主要工作第9-11页
第二章 系统总体设计第11-17页
 第一节 ECR多功能半导体加工装置第11-12页
 第二节 加工工艺简介第12-14页
 第三节 控制系统总体设计第14-17页
第三章 硬件电路设计第17-31页
 第一节 数字电路部分第17-26页
 第二节 模拟电路部分第26-28页
 第三节 其他电路及硬件抗干扰措施第28-31页
第四章 监控程序设计第31-51页
 第一节 软件设计思想第31-32页
 第二节 监控程序的结构和主控程序第32-35页
 第三节 任务模块介绍第35-50页
 第四节 软件抗干扰措施第50-51页
第五章 参数控制对实验的影响与讨论第51-59页
第六章 结束语第59-60页
致  谢第60-61页
参考书目第61-62页

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