N，Ag单掺杂p型ZnO薄膜的制备与特性研究
| 摘要 | 第1-8页 |
| ABSTRACT | 第8-12页 |
| 1 绪论 | 第12-26页 |
| ·引言 | 第12页 |
| ·ZnO 的基本性质 | 第12-14页 |
| ·ZnO 的结构形态 | 第14-15页 |
| ·ZnO 体单晶 | 第14页 |
| ·ZnO 薄膜 | 第14-15页 |
| ·ZnO 纳米结构 | 第15页 |
| ·ZnO 的性能 | 第15-16页 |
| ·ZnO 的光学性质 | 第15页 |
| ·ZnO 的电学性质 | 第15-16页 |
| ·ZnO 的拉曼特性 | 第16页 |
| ·ZnO 薄膜的本征缺陷 | 第16-17页 |
| ·p 型 ZnO 薄膜的研究进展 | 第17-23页 |
| ·p 型掺杂的研究进展 | 第17-22页 |
| ·p 型稳定性的研究进展 | 第22-23页 |
| ·ZnO 的应用 | 第23-24页 |
| ·本文的立题依据、研究内容及创新点 | 第24-26页 |
| ·立题依据 | 第24页 |
| ·研究内容 | 第24-25页 |
| ·创新点 | 第25-26页 |
| 2 实验原理、实验过程及性能评价手段 | 第26-39页 |
| ·实验原理 | 第26-32页 |
| ·电子束蒸发原理 | 第26-28页 |
| ·射频磁控溅射的原理 | 第28页 |
| ·离子注入原理 | 第28-30页 |
| ·退火（热处理）原理 | 第30-31页 |
| ·第一性原理 | 第31-32页 |
| ·实验过程 | 第32-35页 |
| ·实验设备 | 第32-33页 |
| ·靶材的制备 | 第33页 |
| ·衬底及其清洗 | 第33-34页 |
| ·薄膜的制备过程 | 第34-35页 |
| ·性能评价 | 第35-38页 |
| ·Hall 测试 | 第35-36页 |
| ·透射光谱测试 | 第36-37页 |
| ·拉曼（Raman）光谱测试 | 第37页 |
| ·膜厚测试 | 第37页 |
| ·EDS 测试 | 第37-38页 |
| ·XRD 测试 | 第38页 |
| ·小结 | 第38-39页 |
| 3 N 掺杂 p 型 ZnO 薄膜的特性研究 | 第39-47页 |
| ·p 型 ZnO:N 薄膜的特性分析 | 第39-43页 |
| ·拉曼（Raman）测试分析 | 第39-42页 |
| ·透射光谱分析 | 第42-43页 |
| ·Hall 测试分析 | 第43页 |
| ·ZnO:N 薄膜 p 型的稳定性研究 | 第43-46页 |
| ·薄膜应力对 p 型稳定性的影响 | 第44页 |
| ·间隙 N 对 p 型稳定性的影响 | 第44-46页 |
| ·小结 | 第46-47页 |
| 4 Ag 掺杂 ZnO 薄膜的特性研究 | 第47-54页 |
| ·不同 Ag 含量对 ZnO 薄膜特性的影响 | 第47-51页 |
| ·XRD 测试分析 | 第47-48页 |
| ·透射光谱分析 | 第48-49页 |
| ·Hall 测试分析 | 第49-50页 |
| ·拉曼（Raman）测试分析 | 第50-51页 |
| ·p 型 ZnO:Ag 薄膜的实现及稳定性 | 第51-53页 |
| ·p 型 ZnO:Ag 薄膜的实现条件 | 第51-52页 |
| ·p 型 ZnO:Ag 薄膜的稳定性 | 第52-53页 |
| ·小结 | 第53-54页 |
| 5 结论与展望 | 第54-55页 |
| ·主要结论 | 第54页 |
| ·后续工作与展望 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-63页 |
| 附件 A：攻读硕士学位期间发表的论文及科研情况 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64页 |
