| 致谢 | 第7-8页 |
| 摘要 | 第8-9页 |
| ABSTRACT | 第9页 |
| 第一章 绪论 | 第12-22页 |
| 1.1 研究背景 | 第12页 |
| 1.2 表面等离子体简介 | 第12-15页 |
| 1.3 超分辨技术发展简介 | 第15-21页 |
| 1.3.1 超透镜研究现状 | 第15-18页 |
| 1.3.2 表面等离子光刻技术研究现状 | 第18-21页 |
| 1.5 本论文主要内容以及章节安排 | 第21-22页 |
| 第二章 金属-电介质多层复合结构的色散及滤波特性研究 | 第22-30页 |
| 2.1 引言 | 第22页 |
| 2.2 金属-介质多层复合结构的等效介质理论 | 第22-24页 |
| 2.3 金属-电介质多层结构的滤波特性研究 | 第24-29页 |
| 2.3.1 金属-电介质多层结构的光学传递函数推导 | 第24-26页 |
| 2.3.2 金属-电介质多层结构的结构参数对OTF的影响研究 | 第26-29页 |
| 2.4 本章小结 | 第29-30页 |
| 第三章 基于光栅-Ag/SiO_2薄膜多层复合结构的SPs光刻 | 第30-36页 |
| 3.1 引言 | 第30页 |
| 3.2 金属光栅-Ag/SiO_2多层复合结构的SPs光刻特性 | 第30-35页 |
| 3.2.1 Ag/SiO_2多层复合结构的OTF及其优化 | 第30-32页 |
| 3.2.2 金属光栅的光栅周期对SPs光刻条纹的影响 | 第32-34页 |
| 3.2.3 金属光栅的光栅占空比对SPs光刻条纹的影响 | 第34-35页 |
| 3.3 本章小结 | 第35-36页 |
| 第四章 基于表面等离子体谐振腔的超分辨光刻 | 第36-44页 |
| 4.1 引言 | 第36页 |
| 4.2 共振型SPs超分辨金属-电介质多层光刻结构 | 第36-43页 |
| 4.2.1 微腔厚度和Ag涂层厚度对腔共振效应的影响 | 第36-38页 |
| 4.2.2 SPs垂直腔共振耦合的理论分析 | 第38-42页 |
| 4.2.3 共振型SPs微腔的条纹对比度 | 第42-43页 |
| 4.3 本章小结 | 第43-44页 |
| 第五章 全文总结与展望 | 第44-46页 |
| 5.1 全文总结 | 第44-45页 |
| 5.2 未来展望 | 第45-46页 |
| 参考文献 | 第46-50页 |
| 攻读硕士学位期间的学术活动及成果情况 | 第50页 |
