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取样光栅的刻蚀深度空间分布微调方法

摘要第5-7页
ABSTRACT第7-8页
第一章 绪论第17-21页
第二章 提高取样光栅衍射效率均匀性的初步方案第21-29页
    2.1 大尺寸取样光栅的简要介绍第21-22页
    2.2 衍射效率均匀性问题浅析第22-23页
    2.3 提高取样光栅衍射效率均匀性的初步方案第23-25页
        2.3.1 刻槽深度和占宽比对衍射效率均匀性的影响第24-25页
    2.4 初步方案的技术可行性分析第25-28页
        2.4.1 刻槽深度和占宽比的工艺容差分析第25-26页
        2.4.2 离子束束流密度空间分布的时间稳定性第26-27页
        2.4.3 取样光栅占宽比的测量方法第27-28页
    2.5 本章小结第28-29页
第三章 大尺寸取样光栅的刻蚀深度分布微调第29-47页
    3.1 刻蚀深度分布微调系统第29-35页
        3.1.1 主要装置第29-31页
        3.1.2 工作原理第31-34页
        3.1.3 控制系统第34-35页
    3.2 刻蚀深度分布微调算法第35-42页
        3.2.1 遮挡时间和遮挡率的基本概念第36-37页
        3.2.2 叶片阴影扫描路径规划第37-39页
        3.2.3 电机运行轨迹优化第39-42页
    3.3 模拟结果与讨论第42-43页
    3.4 本章小结第43-47页
第四章 刻蚀深度分布微调方法的实验验证第47-59页
    4.1 验证实验设计第47-48页
        4.1.1 实验条件第47-48页
    4.2 实验结果与讨论分析Ⅰ第48-53页
        4.2.1 叶片旋转角度与遮挡率分布曲线的关系第49-52页
        4.2.2 条形准直光阑的孔径宽度与刻蚀速率分布曲线的关系第52-53页
    4.3 刻蚀深度分布微调算法的修正第53-54页
        4.3.1 遮挡时间计算过程的修正第53页
        4.3.2 扫描路径拼接过程的修正第53-54页
    4.4 实验结果与讨论Ⅱ第54-57页
        4.4.1 考虑叶片边缘散射的一维刻蚀深度分布验证实验第54-55页
        4.4.2 二维刻蚀深度分布初步验证实验第55-57页
    4.5 本章小结第57-59页
第五章 刻蚀深度分布微调算法在离子束修形中的应用第59-71页
    5.1 引言第59页
    5.2 变束斑离子束第59-61页
        5.2.1 动态准直光阑设计第59-60页
        5.2.2 变束斑去除函数假设第60-61页
    5.3 变束斑离子束修形的初步分析第61-63页
        5.3.1 积分刻蚀时间第61-62页
        5.3.2 加工轨迹的时空分析第62-63页
    5.4 变束斑离子束修形算法第63-66页
        5.4.1 扫描路径规划第63-65页
        5.4.2 运动轨迹优化第65-66页
    5.5 模拟结果与讨论第66-70页
        5.5.1 一维修形的运动轨迹优化第66-68页
        5.5.2 变束斑离子束二维修形第68-70页
    5.6 本章小结第70-71页
第六章 总结与展望第71-73页
    6.1 工作总结第71页
    6.2 研究展望第71-73页
参考文献第73-77页
附录A 附录第77-117页
    A.1 基于俯视SEM图像的占宽比空间分布均匀性检测分析第77-80页
    A.2 验证实验工作计划及总结第80-81页
    A.3 一维刻蚀深度分布微调算法SWING1D第81-90页
        A.3.1 deg2profilem第83-84页
        A.3.2 trajoptr.m第84-87页
        A.3.3 timeperstep_fst.m第87-90页
    A.4 刻蚀深度分布微调系统的相关控制程序第90-100页
        A.4.1 离子束扫描探测软件BeamMeas第90-92页
        A.4.2 上位机控制软件SyncMotion第92-95页
        A.4.3 PLC运动控制程序第95-100页
    A.5 变束斑离子束修形算法第100-117页
        A.5.1 psopt2Test.m第102-105页
        A.5.2 objfun.m第105-107页
        A.5.3 psoptmap.m第107-111页
        A.5.4 rascan.m第111-115页
        A.5.5 spdiv.m第115-117页
致谢第117-119页
在读期间发表的学术论文与取得的研究成果第119-120页

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