摘要 | 第5-7页 |
ABSTRACT | 第7-8页 |
第一章 绪论 | 第17-21页 |
第二章 提高取样光栅衍射效率均匀性的初步方案 | 第21-29页 |
2.1 大尺寸取样光栅的简要介绍 | 第21-22页 |
2.2 衍射效率均匀性问题浅析 | 第22-23页 |
2.3 提高取样光栅衍射效率均匀性的初步方案 | 第23-25页 |
2.3.1 刻槽深度和占宽比对衍射效率均匀性的影响 | 第24-25页 |
2.4 初步方案的技术可行性分析 | 第25-28页 |
2.4.1 刻槽深度和占宽比的工艺容差分析 | 第25-26页 |
2.4.2 离子束束流密度空间分布的时间稳定性 | 第26-27页 |
2.4.3 取样光栅占宽比的测量方法 | 第27-28页 |
2.5 本章小结 | 第28-29页 |
第三章 大尺寸取样光栅的刻蚀深度分布微调 | 第29-47页 |
3.1 刻蚀深度分布微调系统 | 第29-35页 |
3.1.1 主要装置 | 第29-31页 |
3.1.2 工作原理 | 第31-34页 |
3.1.3 控制系统 | 第34-35页 |
3.2 刻蚀深度分布微调算法 | 第35-42页 |
3.2.1 遮挡时间和遮挡率的基本概念 | 第36-37页 |
3.2.2 叶片阴影扫描路径规划 | 第37-39页 |
3.2.3 电机运行轨迹优化 | 第39-42页 |
3.3 模拟结果与讨论 | 第42-43页 |
3.4 本章小结 | 第43-47页 |
第四章 刻蚀深度分布微调方法的实验验证 | 第47-59页 |
4.1 验证实验设计 | 第47-48页 |
4.1.1 实验条件 | 第47-48页 |
4.2 实验结果与讨论分析Ⅰ | 第48-53页 |
4.2.1 叶片旋转角度与遮挡率分布曲线的关系 | 第49-52页 |
4.2.2 条形准直光阑的孔径宽度与刻蚀速率分布曲线的关系 | 第52-53页 |
4.3 刻蚀深度分布微调算法的修正 | 第53-54页 |
4.3.1 遮挡时间计算过程的修正 | 第53页 |
4.3.2 扫描路径拼接过程的修正 | 第53-54页 |
4.4 实验结果与讨论Ⅱ | 第54-57页 |
4.4.1 考虑叶片边缘散射的一维刻蚀深度分布验证实验 | 第54-55页 |
4.4.2 二维刻蚀深度分布初步验证实验 | 第55-57页 |
4.5 本章小结 | 第57-59页 |
第五章 刻蚀深度分布微调算法在离子束修形中的应用 | 第59-71页 |
5.1 引言 | 第59页 |
5.2 变束斑离子束 | 第59-61页 |
5.2.1 动态准直光阑设计 | 第59-60页 |
5.2.2 变束斑去除函数假设 | 第60-61页 |
5.3 变束斑离子束修形的初步分析 | 第61-63页 |
5.3.1 积分刻蚀时间 | 第61-62页 |
5.3.2 加工轨迹的时空分析 | 第62-63页 |
5.4 变束斑离子束修形算法 | 第63-66页 |
5.4.1 扫描路径规划 | 第63-65页 |
5.4.2 运动轨迹优化 | 第65-66页 |
5.5 模拟结果与讨论 | 第66-70页 |
5.5.1 一维修形的运动轨迹优化 | 第66-68页 |
5.5.2 变束斑离子束二维修形 | 第68-70页 |
5.6 本章小结 | 第70-71页 |
第六章 总结与展望 | 第71-73页 |
6.1 工作总结 | 第71页 |
6.2 研究展望 | 第71-73页 |
参考文献 | 第73-77页 |
附录A 附录 | 第77-117页 |
A.1 基于俯视SEM图像的占宽比空间分布均匀性检测分析 | 第77-80页 |
A.2 验证实验工作计划及总结 | 第80-81页 |
A.3 一维刻蚀深度分布微调算法SWING1D | 第81-90页 |
A.3.1 deg2profilem | 第83-84页 |
A.3.2 trajoptr.m | 第84-87页 |
A.3.3 timeperstep_fst.m | 第87-90页 |
A.4 刻蚀深度分布微调系统的相关控制程序 | 第90-100页 |
A.4.1 离子束扫描探测软件BeamMeas | 第90-92页 |
A.4.2 上位机控制软件SyncMotion | 第92-95页 |
A.4.3 PLC运动控制程序 | 第95-100页 |
A.5 变束斑离子束修形算法 | 第100-117页 |
A.5.1 psopt2Test.m | 第102-105页 |
A.5.2 objfun.m | 第105-107页 |
A.5.3 psoptmap.m | 第107-111页 |
A.5.4 rascan.m | 第111-115页 |
A.5.5 spdiv.m | 第115-117页 |
致谢 | 第117-119页 |
在读期间发表的学术论文与取得的研究成果 | 第119-120页 |