| 摘要 | 第1-8页 |
| ABSTRACT | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-20页 |
| ·集成电路的发展现状和发展趋势 | 第10-12页 |
| ·微机电系统的发展 | 第12-16页 |
| ·概念 | 第12-13页 |
| ·微机电系统的特点及应用 | 第13-14页 |
| ·国内外研究现状 | 第14-16页 |
| ·电子束曝光技术 | 第16-20页 |
| ·电子束曝光技术特点 | 第16-17页 |
| ·电子束曝光技术的应用 | 第17-19页 |
| ·电子束曝光技术的限制 | 第19-20页 |
| 第二章 电子束曝光机 | 第20-29页 |
| ·电子束曝光机的发展历史及现状 | 第20-23页 |
| ·国外发展状况 | 第20-21页 |
| ·国内发展状况 | 第21-23页 |
| ·电子束曝光机的原理及组成 | 第23-24页 |
| ·电子束曝光机的组成 | 第23-24页 |
| ·电子束曝光机的曝光原理 | 第24页 |
| ·电子束曝光机的扫描方式 | 第24-29页 |
| ·光栅扫描 | 第25-27页 |
| ·矢量扫描 | 第27-29页 |
| 第三章 Ee~-BES-40A电子束曝光系统 | 第29-41页 |
| ·系统简介 | 第29-30页 |
| ·概况 | 第29页 |
| ·主要单元 | 第29-30页 |
| ·曝光主机系统硬件 | 第30-32页 |
| ·光学系统 | 第30页 |
| ·电子枪 | 第30页 |
| ·电子光主体 | 第30-32页 |
| ·工作室、工作台及其驱动 | 第32页 |
| ·激光干涉定位系统 | 第32页 |
| ·换片机构 | 第32页 |
| ·真空系统 | 第32页 |
| ·空气悬浮系统 | 第32页 |
| ·控制台系统硬件 | 第32-35页 |
| ·Eclipse计算机 | 第33-34页 |
| ·主终端和辅助终端 | 第34页 |
| ·微控(Minicon)和图形存储器 | 第34页 |
| ·工件台控制接口和伺服放大器 | 第34页 |
| ·通用I/O接口 | 第34页 |
| ·换片机构控制器 | 第34页 |
| ·离子泵控制器 | 第34-35页 |
| ·电子束控制单元 | 第35页 |
| ·电源 | 第35页 |
| ·刻写系统 | 第35-38页 |
| ·条带 | 第35-36页 |
| ·位图 | 第36页 |
| ·地址 | 第36-38页 |
| ·软件系统简介 | 第38-39页 |
| ·Eclipse:系统控制器 | 第38页 |
| ·RDOS | 第38页 |
| ·CLI | 第38页 |
| ·文件 | 第38页 |
| ·数据处理软件 | 第38-39页 |
| ·Ee~-BES-40A光栅扫描曝光机的性能分析 | 第39-41页 |
| 第四章 Ee~-BES-40A工件台扫描控制系统 | 第41-57页 |
| ·控制系统 | 第41-44页 |
| ·工件台扫描系统组成 | 第44-45页 |
| ·控制原理及过程 | 第45页 |
| ·控制原理 | 第45页 |
| ·控制过程 | 第45页 |
| ·工件台控制接口 | 第45-57页 |
| ·控制接口 | 第45-46页 |
| ·I/O板 | 第46-48页 |
| ·控制板 | 第48-50页 |
| ·轴板 | 第50-52页 |
| ·速度板 | 第52-54页 |
| ·激光接口板和消息单元板 | 第54-55页 |
| ·电压鉴别板 | 第55页 |
| ·终端和读出(T&R)板 | 第55-57页 |
| 第五章 图形发生器及接口设计 | 第57-69页 |
| ·Ee~-BES-40A电子束曝光机的光栅扫描图形生成系统 | 第57-62页 |
| ·微控制器的控制功能 | 第57-58页 |
| ·微控制器的组成和指令格式 | 第58页 |
| ·接口电路 | 第58-60页 |
| ·图形存储器 | 第60-62页 |
| ·矢量扫描图形发生器原理及实现 | 第62-64页 |
| ·图形发生器原理 | 第62-64页 |
| ·图形发生器数据信号 | 第64页 |
| ·接口设计 | 第64-69页 |
| ·ISA总线标准 | 第65-67页 |
| ·端口 | 第67-68页 |
| ·关于干扰 | 第68-69页 |
| 结束语 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第74-75页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第75页 |