| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第12-31页 |
| 1.1 微机电系统（MEMS）简介 | 第12-15页 |
| 1.1.1 MEMS 的概念和特征 | 第12-13页 |
| 1.1.2 MEMS 技术简介 | 第13-14页 |
| 1.1.3 MEMS 的典型应用 | 第14-15页 |
| 1.2 微尺度MEMS 材料力学性能测试 | 第15-17页 |
| 1.2.1 微尺度MEMS 材料力学性能研究的必要性 | 第15-17页 |
| 1.2.2 微尺度MEMS 材料力学性能测试方法 | 第17页 |
| 1.3 微拉伸测试方法研究现状 | 第17-26页 |
| 1.3.1 传统微拉伸方法 | 第19-23页 |
| 1.3.2 片上集成微拉伸方法 | 第23-26页 |
| 1.3.3 转化微拉伸方法 | 第26页 |
| 1.4 本课题的研究意义和主要研究内容 | 第26-28页 |
| 参考文献 | 第28-31页 |
| 第二章 微拉伸试样的设计、仿真与制备 | 第31-52页 |
| 2.1 微拉伸试样的基本模型 | 第31-34页 |
| 2.1.1 微拉伸试样和测试片的基本设计 | 第31-32页 |
| 2.1.2 微拉伸测试片的理论模型 | 第32-34页 |
| 2.2 微拉伸试样和测试片的优化设计 | 第34-38页 |
| 2.2.1 微拉伸试样的有限元模拟 | 第34-36页 |
| 2.2.2 微拉伸测试片支撑弹簧的有限元模拟 | 第36-38页 |
| 2.3 微拉伸试样电镀厚度均匀性的模拟 | 第38-46页 |
| 2.3.1 线宽和光刻胶厚度对电镀均匀性的影响 | 第40-41页 |
| 2.3.2 片内辅助极对电镀均匀性的影响 | 第41-43页 |
| 2.3.3 片外辅助极以及绝缘挡板对电镀均匀性的影响 | 第43-46页 |
| 2.4 微拉伸试样的微加工制备 | 第46-49页 |
| 2.4.1 牺牲层工艺 | 第46-48页 |
| 2.4.2 基于硅刻蚀工艺 | 第48-49页 |
| 2.5 本章小结 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-52页 |
| 第三章 微拉伸平台数据采集与分析系统 | 第52-66页 |
| 3.1 微拉伸测试系统简介 | 第52-53页 |
| 3.2 数据采集与分析系统框架 | 第53-54页 |
| 3.3 数据采集与分析系统的硬件构成 | 第54-58页 |
| 3.3.1 电磁式步进马达位移输出装置 | 第55-56页 |
| 3.3.2 图像采集 | 第56-57页 |
| 3.3.3 LK-G 高精度激光位移传感器 | 第57-58页 |
| 3.4 数据采集与分析系统的软件设计 | 第58-64页 |
| 3.4.1 Visual Basic 软件开发平台介绍 | 第58-59页 |
| 3.4.2 马达控制模块软件实现 | 第59-60页 |
| 3.4.3 位移数据采集模块软件实现 | 第60-62页 |
| 3.4.4 软件系统介绍 | 第62-64页 |
| 3.5 本章小结 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-66页 |
| 第四章 四种镀液体系电镀镍力学性能的微拉伸测试 | 第66-80页 |
| 4.1 电镀镍试样的制备 | 第66-67页 |
| 4.2 电镀镍试样力学性能测试 | 第67-72页 |
| 4.2.1 微拉伸测试 | 第67-69页 |
| 4.2.2 硬度测试 | 第69页 |
| 4.2.3 断口分析 | 第69-72页 |
| 4.3 电镀镍表面形貌、微结构和枳构 | 第72-75页 |
| 4.3.1 电镀镍表面形貌分析 | 第72-73页 |
| 4.3.2 微观结构分析 | 第73-75页 |
| 4.3.3 织构分析 | 第75页 |
| 4.4 电镀镍力学性能与微观组织结构的关系 | 第75-77页 |
| 4.5 本章小节 | 第77-78页 |
| 参考文献 | 第78-80页 |
| 第五章 总结与展望 | 第80-83页 |
| 5.1 主要结论 | 第80-82页 |
| 5.2 研究展望 | 第82-83页 |
| 微拉伸数据采集与分析系统软件源代码（附录1） | 第83-96页 |
| 致谢 | 第96-97页 |
| 攻读硕士学位期间已发表或录用的论文 | 第97-98页 |
| 攻读硕士学位期间申请的发明专利 | 第98-100页 |
